자성도금의 동향

전문가 제언

○ 자성도금은 포화자화(Bs)값이 크고 보자력(Oe)이 낮은 하드디스크나 자기헤드 등의 메모리용 연질자성재료에 주로 사용되고 있다. 최근 습식페라이트 도금기술을 적용하여 전자파차폐나 자성나노입자 제조 연구가 진행되고 있다.

○ Waseda University의 Atsushi SUGIYAMA 등은 전기-자기상관물성을 이용한 Spintronics 재료로 연질자성과 나노 크기로 혼재하는 자성반도체재료, 촉매나 자기센서 등으로 주목되는 자성도금 막의 개발 동향과 전기화학적인 연질자성화에 관한 연구결과를 발표하였다. 높은 정밀도에서 나노재료를 염가로 대량생산 할 수 있는 나노 임프린트 리소그래피기술(NIL: Nano Imprint Lithography)이 DTPM(Discrete Track Perpendicular Media)제조에 효과적인 것으로 나타났다.

○ 1981년 하드디스크의 기록용 CoNiP 무전해 자성도금에 하지재료로 NiP 무전해 도금막이 실용화하였다. 알루미늄기판 상에 2중 알칼리아연 도금하여 화학적으로 연마하여 평활하게 하였다. IBM사에서는 규칙적으로 배열한 나노미터 크기의 강자성체를 화학합성법으로 제조하는 비트패턴미디어 제조기술을 개발하였다. A. SUGIYAMA 등도 이 비트패턴미디어 기술로써 FePt 입자를 고밀도로 배열시킨 기록층의 설계를 추진하고 있다.

○ 국내에서는 2008년부터 나노 임프린트 리소그래피 기술과 Co-Pt 자성박막도금을 이용하여 제작한 patterned 미디어용 자기패턴의 자기적 및 결정구조 특성에 관한 연구가 진행 중에 있으며 이는 50㎚ 피치의 하드디스크용 마그네트 도트패턴에 관한 것이다. 일부 중소도금 업체에서는 박막자기헤드용 CoNiFe CoFe 등의 자성도금 제품을 생산하고 있다.

○ 최근 박막자기헤드 도금 생산현장에서 까만색 점처럼 보이는 수십 ㎛의 피트 발생에 의한 품질불량이 발생하고 있는 것으로 조사되었다. 국산 도금액의 신뢰성 향상이 요구되는 가운데 제조원가, 생산성 향상을 위한 자성도금 기술개발이 활발히 추진될 것으로 사료된다.

저자

Atsushi SUGIYAMA

자료유형

학술정보

원문언어

일어

기업산업분류

재료

연도

2010

권(호)

61(6)

잡지명

表面技術

과학기술
표준분류

재료

페이지

396~401

분석자

김*상

분석물

• 자성도금 막의 동향.pdf [509,511 byte]

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