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노광장치의 수차 데이터 활용기술의 연구

전문가 제언: ○ 반도체 제조라인과 같이 정밀하면서도 고도의 자동화 기술이 필요한 플랜트에는 로광장치(exposure tool)가 포함된 광학기계의 활용이 필수적이다. 로광장치에 필요한 특성은 회로 패턴의 선폭이 설계를 통하여 형성되는 것이며, 이를 저해하는 것이 투영 렌즈의 수차(aberration)로서, 라인-공간 패턴의 좌우단 선폭 차이라든가 포커스 마진의 감소를 불러일으킨다.

? 로광장치가 포함된 정밀 광학기계에 대한 수차의 개선에는 렌즈의 두께, 간격, 곡률 반경의 조정이 우선 필요한 경우가 보통이며, 제조 라인에서 이를 수행하기 위해서는 수일간의 장치 정지가 필요하다. 그러나 로광 파장을 변화시켜 수차를 조정?개량시킬 수 있음이 이 보고서에서 검증되었다.

○ 일반적으로 투영 렌즈에 대한 수차 평가는 전사(transcription) 패턴을 계측하는 방법을 주로 하여 개발되었는 바, 측정한 수차를 제조 라인에 활용하는 방법에 관한 보고 사례는 거의 없다.

? 이 보고서에서는 복수의 로광장치에 대한 수차 측정 데이터를 바탕으로 한 장치 해석 방법과 장치의 개선 방법에 관하여 기술하였다. 따라서 이 보고서 내용을 응용하면 정밀하고 복잡한 제조 라인에 대한 착공 이전의 장치 평가 작업 을 줄일 수 있을 뿐만 아니라 이에 따른 장치 가동률 향상을 도모할 수 있다.

○ 이 보고서의 중요한 수차의 해석 대상은 라인-공간의 좌우 선폭 차이와 포커스 마진이다. 전자는 장치의 기계를 평가하는데 널리 이용할 수 있고, 후자는 협소화에 수반되는 합선(short circuit) 등과 같은 불량을 유발하는 중요한 지표가 될 수 있다.

저자: Yasuhiro YOSHITAKE
자료유형: 학술정보