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특허출원으로 본 포토마스크 기술동향

전문가 제언: ○ 포토리소그래피(photo-lithography)는 반도체 또는 액정패널 등의 제조공정에 이용되는 중요한 기술이며, 포토마스크(photomask)는 유리기판 위에 반도체 미세회로를 형상화한 것으로서 포토리소그래피의 핵심기술이다. 지난 반세기 반도체산업의 발전은 포토리소그래피에 의한 패턴 미세화(고집적화)기술의 발전에 기인한다.

○ 이 보고서는 일본특허청이 ‘포토마스크’에 관한 세계 각국(미국, 일본, 유럽, 한국, 대만, 중국)의 특허출원(자국출원 및 해외출원)을 분석한 내용으로서 우리나라가 세계적인 경쟁력을 가진 메모리반도체뿐만 아니라 마이크로전자 산업기술 그리고 새로이 대두되고 있는 MEMS 산업과 관련하여 가치 있는 기술정보를 제공한다.

○ 데이터베이스 PATOLIS, WPINDEX를 기초로 검색한 결과 포토마스크관련 특허출원건수(~2008년 7월)는 세계합계 8,422건, 출원인 국적별로는 일본 60.7%, 미국 16.1%, 유럽 11.9, 한국 6.5, 대만 4.0%, 중국 1% 미만으로 나타났다. 출원대상국별 출원건수는 일본 42.9%, 미국 31.8%, 한국 9.3%, 유럽 9.1%, 중국 6.9% 순으로서 일본이 앞서가고 있다.

○ 전체적으로 보면 2004년 이후 포토마스크 관련 특허출원은 감소추세다. 원인은 Sony(일본), Infenion Technologies(독일) 등 반도체 메이커가 포토마스크에 대한 연구를 중단하고, 반도체메이커의 수가 감소한 데 따른 것이다. 반면에, 한국과 중국은 반도체산업의 경쟁력을 바탕으로 출원건수가 증가추세다. 이 보고서는 한국의 삼성전자가 논문과 특허출원건수에서 세계상위권에 진입해 있음을 특기하고 있다.

○ 이 보고서는 결론적으로 향후 포토마스크에 관한 일본의 대응방향에 관해 1)국제경쟁력 강화를 위해 계속하여 관련 기술개발에 주력할 것, 2)포토마스크산업과 반도체소자, 설계소프트웨어, 노광장치, 묘화?계측?검사?수정장치, 블랭크기판 등 관련 산업의 협력강화, 3)포토마스크 응용분야의 확대(MEMS 등)를 제언하고 있다. 이와 관련하여 국내 정책수립자, 산업계 및 연구계의 적절한 대응이 필요하다.

저자: JPO
자료유형: 학술정보