실온 나노임프린트 기술

전문가 제언

○ 나노임프린트 리소그래피(NIL)는 나노 스케일의 미세한 패턴을 용이하게 높은 정도, 저비용으로 형성할 수 있는 아주 매력적인 기술이다. 최근에는 광 도파로나 도광판 등의 광 디바이스, 파탄드미디어 등의 자기기록 디바이스 등 여러 분야에서 나노임프린트 기술이 주목을 받고 있다.

○ 열 나노임프린트는 전사재료인 열가소성수지를 유리전이 온도 이상으로 승온하여 압형하고 냉각하는 것으로, 열에 의한 패턴 위치나 선폭 정밀도의 열화, 승온 냉각에 시간이 많이 걸리는 단점이 있다. 반면에 광 나노임프린트는 전사재료로 저점성의 UV광 경화성 모노머를 사용하며, 실온 프로세스가 가능하나 UV 경화 시 전사재료가 수축되는 문제가 있다.

○ 본고는 무기 졸-겔계 재료로서 드라이 에칭 내성이 우수한 수소실세스키옥산폴리머를 전사재료로 사용하여 제작한 나노임프린트 패턴을 마스크로 사용하여 아스펙트 비 43의 L&S구조의 고 아스펙트 비 Si 나노필러를 제조하고 또한 무기재료에 비하여 광학특성을 향상시킨 유기 스핀온글라스(O-SOG)를 전사재료로 사용하여 마이크로렌즈 어레이를 제조한 내용을 소개하고 있다.

○ 근래에 나노임프린트 해상도가 2, 3nm 수준으로 달성되고 고 아스펙트 비, 저비용으로 실온 전사가 가능하게 됨에 따라 반도체산업 분야에서 도 나노임프린트를 차세대 리소그래피의 유력한 후보기술로 전망하는 등 유망한 기술이다. 나노임프린트에 에칭내성에 우수한 전사재료, 투과율이나 굴절률 등의 광학적 특성이 우수한 전사재료의 개발이 추진되어 실용화가 예상되므로 관련 업계의 많은 관심이 요망된다.

저자

Ken-ichiro NAKAMATSU, Shinji MATSUI

자료유형

학술정보

원문언어

일어

기업산업분류

화학·화공

연도

2008

권(호)

59(10)

잡지명

表面技術

과학기술
표준분류

화학·화공

페이지

648~653

분석자

이*옹

분석물

• 실온 나노임프린트 기술.pdf [372,944 byte]

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