락톤 골격 고분자의 연구개발 동향

전문가 제언

○ 여러 가지 재료로 기능구조와 작동 디바이스를 가공하는 기술이 마이크로 전자디바이스, 정보저장 시스템 등의 많은 제품 생산의 중심에 있다. 이 공정은 대부분 아주 특수하고 복잡하면서도 매우 고가인 포토리소그래피 설비에 의해 클린룸에서만 운영되고 있다. 최근 등장한 소프트 리소그래피는 간단하고 고전적 개념을 활용한다. 스탬프를 사용하여 반복적으로 패턴을 만들어 내는 것이다. 평면, 곡면, 유연재료 등의 다양한 기판에 패턴을 제조할 수 있다.

○ 본 문헌에서는 락톤구조를 갖는 고분자의 지난 25년간의 개발동향에 대하여 설명하고 있다. 이를 첨단 반도체 리소그래피의 레지스트에 활용함으로서 최근까지 크게 진보하여 왔다. 락톤구조를 함유한 고분자는 반도체 칩 제조에서 90㎚, 65㎚, 더 나아가 45㎚ 스케일까지 널리 활용되고 있다. 최근 개발된 노보넨 락톤구조 단위를 함유한 고분자는 특히 ArF 엑시머레이저 리소그래피용의 기본 고분자로서의 가능성을 갖고 있다.

○ 노보넨 락톤구조 단위를 갖는 (메타)아크릴레이트 공중합고분자를 사용한 레지스트는 양호한 해상성을 나타냈다. 노보넨 락톤구조 단위를 갖는 (메타)아크릴레이트 공중합고분자를 사용한 레지스트가 많은 요구특성을 밸런스있게 만족시킬 수 있어 아주 실용성이 높은 것으로 실증되었다. 많은 특성을 만족시킬 수 있는 노보넨 락톤 골격을 갖는 아크릴레이트 공중합고분자를 함유한 레지스트는 90㎚ 이하의 첨단 반도체의 미세가공에 널리 사용되고 있다.

○ 최근 등장한 나노임프린트(nanoimprint)기술은 광디스크의 제작방법인 엠보싱(embossing)기술을 발전시켜 해상성을 향상시킨 기술로서 요철의 패턴을 형성한 금형에 의해 기판상의 액상 고분자를 압착하여 패턴을 전사하는 방법이다. 이 기술은 반도체소자나 광소자 또는 나노구조재료의 형성 등 새로운 용도로의 응용이 시도되어 10㎚ 레벨의 나노구조체를 염가로 대량생산하는 것이 가능하며 또한 고정밀도화가 가능한 기술로서 최근 주목받고 있다.

저자

Etsuo Hasegawa, Katsumi Maeda

자료유형

학술정보

원문언어

일어

기업산업분류

화학·화공

연도

2008

권(호)

57(10)

잡지명

高分子

과학기술
표준분류

화학·화공

페이지

850~855

분석자

김*수

분석물

• 락톤 골격 고분자의 연구개발 동향.pdf [378,582 byte]

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