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광유발 염기 생성체: 최근의 발전과 고분자계에 대한 활용

전문가 제언: ○ 광조사로 라디칼, 산 또는 염기를 생성시켜 고분자의 광중합에 이용하거나 광가교에 의한 코팅이나 선택적인 용해도 차이를 이용하는 이미징 기술은 고분자는 물론 반도체 산업 등 모든 산업분야에 매우 매력적이며 중요한 의미를 지닌 과정이다. 광으로 유발되는 반응은 일반적으로 가열하지 않고 단지 광조사로 개시되므로 산업에서 다양하게 사용되고 있는데 고분자의 합성, 고분자의 열화, 고분자의 개질 등은 물론 2 내지 3차원 이미징, 코팅과 표면 개질 등에 이용되고 있다.

○ 광에 유발되어 생성된 라디칼이나 산을 고분자의 합성이나 고분자의 반응에 연구하거나 이용한 예는 많으나 라디칼의 경우는 공기 중의 산소에 의해 그 활성을 잃어버리며 산의 경우는 금속재질을 부식시킨다는 사용상의 문제점을 가지고 있다. 그러나 염기의 경우 이러한 문제점이 없어 산업과정에서 촉매로서 다양한 합성과정에 이용되고 있으나 광조사에 유발되어 생성되는 염기를 광촉매로 사용은 별로 진척을 보지 못하였다.

○ 본고에서는 광의 유발로 생성되는 염기 생성체 즉 photobase generator에 대한 최근의 연구결과를 소개하고 있는데 그 활용부분은 고분자의 합성, 고분자의 개질, 광경화 활용, 이미징 산업으로의 응용 등 실로 다양하다. 염기촉매의 활용이 아직은 궤도에 오른 것으로는 보이지 않는다. 그러나 산촉매에 의한 반응이나 라디칼 반응에 비해 산업공정에서의 적응성이 높은 점을 고려할 때 앞으로 광조사에 의해 반응계 중에서 생성되는 염기촉매 활용은 급격하게 신장될 것으로 기대된다. 따라서 이 분야에 대한 연구 활성화를 기대한다.

저자: Kanji Suyama
자료유형: 학술정보