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금 나노입자 초격자구조 조립

전문가 제언: ○ 현재의 IT기술은 리소그래피를 기반으로 하는 실리콘 트랜지스터의 소형화에 의존해오고 있다. 인텔의 공동 설립자인 고든 무어는 1965년에 반도체 집적회로의 성능이 24개월마다 2배로 증가한다고 주장했으나, top-down 방식인 리소그래피 기술은 한계에 부딪치게 되어 있고, 바로 지금이 반도체 소형화가 한계에 다다른 시점이다.

○ 20세기 말에 본격적으로 등장한 나노기술은 물질을 나노미터 수준에서 다루는 기술이기 때문에 이 기술이 성숙하면 전자소자들을 bottom-up 방식으로 조립할 수 있고, 따라서 트랜지스터와 같은 전자디바이스도 나노미터 크기로 조립할 수 있게 될 것이다.

○ 나노디바이스의 조립은 나노물질의 조립기술이 기본이기 때문에 1990년대부터 나노물질, 특히 나노입자들을 조립하는 연구가 1990년대부터 대단히 활발하게 이루어지고 있다.

○ 이 분석물은 인도의 National Chemical Laboratory의 B. L. V. Pradad 그룹이 2008년 7월에 금 나노입자로부터 초격자구조를 조립하는 기술을 소개한 리뷰 논문을 필자가 간단하게 요약한 글이다. 논문은 1990년 대 이후 이 분야의 연구논문들을 비교적 다양하게 조사해서 소개했기 때문에 금 나노입자 초격자에 대한 개괄적 연구동향을 파악하는 데 도움이 될 수 있을 것으로 평가된다.

○ 나노입자의 초격자가 중요하다고는 해도, 나노물질을 이용해서 전자소자를 조립하는 기술에는 아직 극복하기 어려운 장벽들이 너무 많이 도사리고 있기 때문에 가까운 장래에 나노트랜지스터가 실용화 될 수 있는 시기를 예측하는 것조차도 시기상조라는 것이 본 분석자의 판단이다. 오히려 금 나노입자의 표면 플라스몬 공명현상과 같은 독특한 광학적 현상을 이용해서 질병의 진단과 치료에 응용할 수 있다는 가능성이 대단히 높이지고 있다는 점에서 금 나노입자에 대한 과학자들의 시각이 변하고 있음을 지적하고 싶다.

저자: Prasad, B. L. V., et al.
자료유형: 학술정보