초소형 나노 구조물 제조기술
- 전문가 제언
-
○ 나노 구조물 제조기술은 점차 초소형화를 지향하는 흐름에 맞추어 전자/기계/광학/화학/생물 등과 융․복합되어 보다 더 고정밀․고집적화로 발전하고 있으며, 고부가가치의 신산업을 창출하고 있는 미래유망기술로 부각되고 있다.
○ 나노 과학 분야의 산업 환경은 나노 개구의 규모가 50㎚ 이하이거나 최고 1~2㎚를 요구하고 있다. 이처럼 나노 개구의 규모를 보다 작게 하는 것이 나노 산업분야에서 중요한 기술적 과제가 되고 있다. 그 해법은 대량 생산 및 비용측면에서 효율성 및 실용화 가능성에 달려 있어 기술적 해결방법이 절실한 상황이다. 콜로이드 형태의 무색투명 형상을 갖는 1~10㎚ 규모의 나노 구조물을 국내 기업에서 개발한 바 있다.
○ 나노 기술의 본질적인 발전을 위해서는 top-down 방식의 제조기술에서 탈피하여 분자 자가 조립(molecular self-assembly) 방식으로 나노 구조물을 제조하는 bottom-up 방식으로의 전환이 필요하다.
– bottom-up 방식에서 중요한 기술은 고체 표면에 선택적으로 특정한 기능을 가지는 안정한 박막을 만드는 것이다. 이를 위해서는 분자 수준에서 조절이 가능한 actuator를 다양하게 변화시킬 수 있어야 하며, 고체 표면과의 결합력이 강한 박막 제조기술이 필요하다.
– 반도체 및 전자소자의 제조에 다음과 같은 새로운 나노 제작기술의 적용이 요구된다.
․ 광촉매와 선택적 박막 증착법을 이용한 새로운 패터닝 기술
․ 미세접촉 인쇄법과 원자층 성장방법을 이용한 패터닝 기술
․ Nano-sphere lithography 방법을 이용한 패터닝 기술
․ 나노 전사 프린팅 방법을 이용한 금속 패터닝 기술
․ Light Stamping Lithography를 이용한 패터닝 기술
․ 자기조립 다층 분자막 제조기술
․ ALD 기술을 이용한 nano tube 제조기술
- 저자
- CHEN,Chung, Chin
- 자료유형
- 특허정보
- 원문언어
- 영어
- 기업산업분류
- 전기·전자
- 연도
- 2008
- 권(호)
- WO20080002326
- 잡지명
- PCT 특허
- 과학기술
표준분류 - 전기·전자
- 페이지
- 1~54
- 분석자
- 박*환
- 분석물
-
이미지변환중입니다.