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나노임프린트 리소그래피기술을 위한 도전과 변수

전문가 제언: ○ 1995년 Chicago대학 Chou교수에 의해 나노임프린트 리소그래피(NIL)가 발표된 이후 10여 년 동안 NIL이 가져다 줄 수 있는 가공성, 즉, 가공 속도, 대량 생산성, 가공 비용의 이점 등 때문에 우리나라를 비롯하여 각국이 경쟁적으로 개발에 힘을 쏟아왔다.

○ 국제반도체기술로드맵 ITRS2003에서는 NIL을 차세대 리소그래피(NGL)후보에 포함시켜 미래 반도체를 위한 나노가공의 주요 제조기술로서 자리를 확고히 하는 듯 보였다.

○ 그러나 이 해설 논문에서는 그동안 제기되었던 NIL에 대한 많은 의문들을 정리하여 NIL이 NGL이 되기 위해 해결해야 할 여러 기술적인 질문들을 던지고 있다.

○ 열-NIL과 UV-NIL 모두 아직 기술이 확립되어 있지 않고, 장비공급이 현재 확산되고 있지만 대부분은 아직 속도가 느리고 대량가공에 적합지 않아 장비의 개선문제, 재료(폴리머와 기판재료를 포함), 프로세스, 스탬프 설계 등의 표준화 문제들이 해결되어야 한다. 이들은 또한 속도, 신뢰성, 분해능, 여유도 등을 개선해야 하는 문제들과 연관되고 있다.

○ 이 논문은 결론적으로 NIL 연구자와 엔지니어들이 단지 기술발전이 아니라 반도체를 비롯한 광학부품 등 NIL이 타깃으로 하는 제품들의 생산 수요에 대응하는 혁신적인 임프린트 개념으로까지 기술을 확립시킬 수 있을 때 NIL은 현행 프로세스를 대체할 수 있을 뿐만 아니라 장래 나노가공기술에서 하나의 표준 프로세스가 될 수 있을 것으로 평가하고 있다.

○ NIL에 대해 여러 분석보고서나 논문에서 문제제기는 계속되어 왔지만, 이 해설 논문은 NaPa 등 유럽공동프로젝트를 통해 NIL에 도전하고 있는 유럽(스위스)의 시각에서 분석하고 있다는 점도 특색이다.

저자: Helmut Schift
자료유형: 학술정보