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발명특허의 계류기간과 승인비율: 미국과 중국의 비교연구

전문가 제언: ○ 이 연구는 특허출원 및 승인실제에 중점을 두고 미국과 중국의 발명특허를 비교 대조하였다. 연구결과 양 국가 모두 계류기간에 있어서 내․외국인 출원에 평등한 취급을 하였으나 특허승인에 있어서는 내국인 출원이 더 많은 확실성을 향유한 것 같다. 승인과 관련하여 미국은 내․외국인 출원에 평등하게 취급 하였으나 중국은 내국인 출원을 우대한 것 같이 보인다.

○ 1980년대 초 미국특허청은 승인과정의 효율성을 증대시키는 개혁을 단행하여 누적된 특허출원을 처리하였다. 연구결과 잔무가 해결되었고 미국은 특허실제에서 안정적 프로그램을 향유하게 되었다. 미국은 발명특허 승인에서 이전보다 내․외국인 출원을 훨씬 더 평등하게 취급한다는 것을 암시한다. 이러한 사실은 특허정책과 활동에 대하여 시사점을 준다.

○ 양국의 비교연구는 국제특허시스템이 국가시스템을 국제수준을 향하여 표준화하도록 압력을 넣고 있다는 것을 보여주나 각국은 광범위한 표준틀 내에서 그들 자신의 방식대로 실행하는 자유를 여전히 가지고 있다. 중국에 관한 특허제도연구의 추가는 이 연구 분야에서 개도국과 선진국 간 비교연구의 중요성을 알려주고 있다.

○ 이 연구는 그 태생적 한계 때문에 미래연구가 필요하다. 첫째, 선행연구의 체제적 검토는 전 세계의 특허제도연구가 여전히 유아단계에 있다는 것을 보여준다. 둘째, 이 연구 분야에는 연구자로부터 더 깊은 실증적 기여의 필요성을 조명할 실증적 증거가 희소하다. 지금까지 연구된 국가는 미국, 일본, 일부 EU국가, 중국 및 싱가포르를 포함하여 소수이다. 이 연구에 다른 나라 특히 개도국의 추가는 특허연구의 실증적 범위를 확대시킬 것이다. 셋째, 이 연구는 산업의 차이에 대한 고려가 부족한 데이터에서 연유한 한계를 가지고 있다.

저자: Deli Yang
자료유형: 학술정보