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감광 저항체를 제거하기위한 동적 다중 목적의 조성

전문가 제언: ○ 이 발명은 기저로부터 감광 저항체를 효과적으로 제거하기 위한 능력을 가진 특정 조성 및 이를 활용하는 방법에 관련된 기술이다. 조성은 감광 저항체를 제거할 수 있는 스트리퍼 용액으로서 정상적인 실온 또는 운반 및 입고 시 자주 접하는 온도 이하로 액체를 유지할 수 있으며 추가적으로 본 스트리퍼 용액은 제거된 감광 저항체 물질에 대한 유리한 적재 능력이 이 기술의 특징으로 중요한 청구 범위로 믿어진다.

○ 감광 저항체의 제거를 위한 새로운 스트리퍼 용액의 제조 방법과 기저로부터 관련 중합 물질을 제공 방법을 소개하고 있다. 감광 저항체는 요구하는 양의 제거를 위해 충분한 시간동안 스트리핑 용액과 기저를 접촉시켜 용액으로부터 기저를 제거하고 기저로부터 용매로 용액을 스트리핑 하여 이를 건조하여 감광 저항체를 선택적 제거 기술로 이는 중요한 특허 청구로서 웨이퍼 세척에 크게 활용될 것으로 믿어진다.

○ 스트리퍼 용액은 낮은 온도에서 액체로 유지되기 때문에 사용되기 전에 추운 날씨 동안 창고에서 굳은 드럼을 액체화시킬 필요성이 없다. 본 스트리퍼 용액의 사용으로 종래의 굳은 용액을 녹이기 위하여 드럼 가열기 및 이에 따르는 추가적인 노동이 필요 없고 완전 불완전 용해 및 용해된 용액 조성의 변조의 등의 문제의 제거와 이에 따른 시간적 소모를 줄일 수가 있어 우리 산업에 즉시 활용할 수 있을 것으로 본다.

○ 본 발명에서 발표한 새로운 용액은 특별히 다중 층의 저항 물질의 완전한 제거하는 데에 효과적인 시약이며 유전체 물질 및 이의 유사 물질로 구성된 기저에 사용할 수 있고 용액에서 용해된 저항물질의 많은 양을 보유하는 능력이 있기 때문에 특히 배후의 기저에 손상을 주지 않고 분무 도구를 사용하여 다중 층의 저항 층을 제거하는 데에 유용한 기술이라고 보며 앞으로 반도체 기술에 크게 활용되기를 기대한다.

저자: DYNALOY LLC
자료유형: 특허정보