정밀위치 결정에 있어 능동형 제진장치의 역할

전문가 제언

○ “반도체 노광장치”란 반도체에 회로 패턴을 구워내는 장치로서 나날이 그 기술수준이 향상되어 왔으며, 회로의 선폭이 미세화 되어가는 반도체에 보조를 맞추어 노광장치도 급격하게 발전해왔다. 그 미세화 양상은 경이적이라 할 수 있으며, 처음에는 마이크로미터 수준이었던 회로의 최소 선폭이 현재 60 나노미터로 발전해 왔다.

○ 보다 작은 소자를 만들기 위한 반도체 제조기술에서는 액침 리소그래피(lithography) 기술이나 더블 패터닝 기술 등의 새로운 개념을 도입한 리소그래피 기술이 등장하고 있으며, 이 때문에 반도체 회로 원판이라고 할 수 있는 리소그래피용 포토마스크에 대한 기술적인 요구도 점점 높아가고 있다.

○ 국제반도체 기술 로드맵(ITRS: International Technology Roadmap for Semiconductors)은 1990년경에 500㎚의 기술 노드가, 2004년경에는 90㎚로, 2007년경에는 65㎚로, 2012년경에는 22㎚로, 그리고 2018년경에는 18㎚로 진전되어갈 것으로 전망한다.

○ 광 리소그래피 장치기술은 국제적으로 일본의 Nikon사, Cannon사와 네덜란드의 ASML사 등 3사가 지배하고 있고, 주요 반도체 디바이스 메이커들은 이들로부터 고가의 노광장치를 도입하여 사용하고 있다. 또한, ITRS에 따른 기술동향과 이에 대응하는 미세가공장치인 광 리소그래피 장치 메이커들의 경쟁양상은 더욱 치열해질 것이다.

저자

Shinji WAKUI

자료유형

학술정보

원문언어

일어

기업산업분류

정밀기계

연도

2007

권(호)

73(4)

잡지명

精密工學會誌　

과학기술
표준분류

정밀기계

페이지

405~409

분석자

이*요

분석물

• 정밀위치 결정에 있어 능동형 제진장치의 역할.pdf [308,781 byte]

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