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나노임프린드 기술의 최근 동향

전문가 제언: ○ 나노임프린트(nanoimprint) 기술은 광디스크의 제작방법인 엠보싱(embossing) 기술을 발전시켜 해상성(解像性)을 향상시킨 기술로서 요철(凹凸)의 패턴을 형성한 금형에 의해 기판 상의 액상(液狀) 폴리머를 압착하여 패턴을 전사(轉寫)하는 방법이다. 이 기술은 반도체소자나 광소자 또는 나노구조재료의 형성 등 새로운 용도로의 응용이 시도되어 10㎚ 레벨의 나노구조체를 염가로 대량생산하는 것이 가능하며, 또한 고정밀도화가 가능한 기술로서 최근 주목받고 있다.

○ 세계적으로 나노임프린트 기술의 산업화가 현실로 등장하고 있다. 이에 따라 나노임프린트 장치, 전사재료, 금형, 이형재 등의 나노임프린트 부품 소재 분야로 기업들이 속속 진출하고 있다. 나노임프린트 연구개발과 비즈네스 또한 급격히 세력을 전개하고 있다.

○ 나노임프린트의 응용분야는 ①LCD, PDP의 평면 패널에 관련된 도광판, 무반사방지판, 금속와이어 편광판 등의 광학부품, ②DVD, 자기 테이프 등의 패턴화 미디어, ③마이크로렌즈 어레이, 광도파로 등의 광학부품, ④연료전지 부재료, ⑤바이오디바이스, ⑥최첨단 CMOS 디바이스 등이다. 최근 이에 대한 응용연구개발이 활발하게 진행되고 있다.

○ 미국과 유럽에서는 이미 나노임프린트 기술개발을 위한 산학연 컨소시엄이 형성되어 국가 연구개발 프로젝트로 활성화되어 있는 반면, 일본은 연구소, 대학 중심의 분산된 소단위 연구 프로젝트 수준으로 개발 경쟁력을 우려하고 있다. 최근에는 정부 차원에서 개발전략을 제시하고 있다.

○ 한국 연구진도 나노기술 연구를 위한 도구로서 나노임프린트 리소그래피 장비를 도임하여 중국, 대만, 싱가포르 등과 함께 후발 위치에서 나노임프린트 기술의 응용연구에 참여 중이다. 또한 기계연구소에서 50㎚급의 미세한 패턴을 제작할 수 있는 자외선 나노임프린트 리소그래피 공정 및 장비를 개발하였다. 현재의 기술 수준은 미국, 독일, 일본에 이어 4위권으로 평가받고 있다. 그러나 미래산업의 핵심인 나노기술 분야에 보다 적극적인 지원이 절실한 형편이다.

저자: Shinji Matsui
자료유형: 학술정보