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전계인가 나노임프린트법에 의한 30nm급 미세구조체 형성법

전문가 제언: ○ 이 보고서는 일본 신에너지·산업기술총합개발기구(NEDO)가 2005-2007년의 3년에 걸쳐 NTT Advance Technology(주), NTT-AT Nano Application(주), 일본 전신전화(주), Musashi Engineering(주), Hirosaki 대학 등 5개 기관에 위탁하여 연구개발한 나노패턴형성 공정에 관한 성과 보고서이다. 이 연구개발은 나노임프린트 장치의 공급에 의한 나노패턴형성 기술을 보급하고, 30nm급 미세구조체를 필요로 하는 산업계의 발전에 많은 기여를 할 것으로 전망된다.

○ 최근 선진과학 공업국들은 미래산업에 주도적인 역할을 할 나노기술 개발을 통해 아직 열리지 않은 신천지와 같은 나노장비, 나노소재 등의 시장에서 선두를 차지하기 위해 치열히 경쟁하고 있다. 특히 소재 강국인 일본은 수년 전부터 나노기술에 대한 적극적인 관심을 갖고 있었다. 세계 부품소재 시장에서 한국과 중국의 강력한 견제와 추격에 대한 제압 수단의 하나로 선택한 것이 나노기술 산업이다.

○ 일본의 나노기술 개발은 우리나라와 유사한 디스플레이, 센서 등의 산업 영역에서 거의 비슷한 단계에서 시작, 발전하고 있다. 우리나라와의 큰 차이는 나노 임프린트 리소그래피 등 나노산업을 향한 제조공정기술개발과 산업계로 확산되고 있다는 점이다. 또한 2005년 나노기술 개발에 투입된 일본의 정부자금이 10억 달러에 이르러 우리나라와 비교해 5배의 큰 차이를 보이고 있다.

○ 우리나라의 경우 2005년 11월 기계연구소에서 50nm급의 미세한 패턴을 제작할 수 있는 자외선 나노임프린트 리소그래피 공정 및 장비를 개발하였다. 삼성전자는 2007년 10월 23일 30nm급의 64GB의 낸드플래시를 개발하였다고 발표하였다. 우리나라의 기술수준도 상당하여 미국, 독일, 일본에 이은 4위권으로 평가받고 있다. 대한민국 대표기업 삼성전자가 다시 한 번 세계 산업의 패러다임을 바꿀 수 있는 새로운 도전에 나서기를 기대하여 본다. 이를 위해서는 차세대 리소그래피기술인 나노임프린트 방식의 개발과 도입이 필연적이다.

저자: NEDO
자료유형: 학술정보