극초자외선 리소그래피에서 루테늄-기초로 보호층의 장기간 안정성

전문가 제언

○ EUVL 상태 하에서 탄소흡수와 광학반사율의 감쇠는 잘 알려져 있다. EUVL 상태 하에서 산화공정은 원자크기에는 관계가 없으며 산소원자는 광자유도 분열과정에서 Ru 표면에 적층된다. 이에 따르는 산화는 아직 알려져 있지 않으며 광반사의 영향을 주는 산화효과는 아직 연구 중이다.

○ 이 논문에서 탄소흡수와 광학반사의 감쇠는 3가지 메커니즘으로 요약하였다. 첫째 Ru 캐핑층의 표면특성은 종(種)을 포함하는 탄소의 생성과 산화에 의해서 수정된다. 둘째, 산소와 수소는 Si-Mo 다층적층을 공격하기 위하여 입자경계를 Ru 캐핑층을 통해서 확산할 수 있다. 셋째, Ru 캐핑층에 미치는 RuO₂의 제어할 수 없는 형성은 광반사 감쇠에 대한 표면조도(表面粗度)의 원인이 될 수 있다.

○ 캐핑층 재료로서 무정형 RuO₂의 선택은 금속 Ru에 비교하여 두 가지 장점이 있다. RuO₂를 조절하여 산화로서 증착 또는 합성할 수 있다. 이 방식은 캐핑층 표면에서 RuO₂와 Ru 혼합물이 존재하기 때문에 표면조도의 문제를 해결할 수 있다.

○ RuO₂는 입자경계 없이 무정형 상태에서 제작할 수 있으나 무정형　RuO₂층에 의한 O₂와 H₂의 확산비율은 낮다. 최근 DC 마그네트론 스퍼터링에 의해 증착된 무정형 RuO₂캡층에 대한 수명가속시험 결과 EUV 상태 하에서 RuO₂의 안정성을 나타내었다.

○ 루테늄은 원자로에서 우라늄과 플루토늄 핵분열 생성물에서도 발견되며, 항공기 엔진의 접점재료, 장신구　등에 이용되며, 특히 루테늄화합물은 세포조직의 염색, 눈 치료에 사용된다. 백금과 팔라듐의 경도를 증가시키는 합금재료로서 백금과 같이 보이나 백금보다 단단하면서 잘 부서진다. 융점이 매우 높아 주조가 어렵고 펴거나 선으로 만들기 어렵다. 극초자외선 리소그래피를 이용하면 트랜지스터 밀도를 증가시킬　수 있으며 산화루테늄의 부동태화를 이용하면 좋은 방법이 된다.

저자

Over, H; He, YB; Farkas, A; Mellau, G; Korte, C; Knapp, M; Chandhok, M; Fang, M; AF Over, H.; He, Y. B.; Farkas, A.; Mellau, G.; Korte, C.; Knapp, M.; Chandhok, M.; Fang, M.

자료유형

학술정보

원문언어

영어

기업산업분류

전기·전자

연도

2007

권(호)

25(4)

잡지명

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B

과학기술
표준분류

전기·전자

페이지

1123~1138

분석자

이*철

분석물

• 극초자외선 리소그래피에서 루테늄-기초로 보호층의 장기간 안정성.pdf [239,385 byte]

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