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스퍼터 알루미늄의 양극산화를 이용한 실리콘 나노 구조체 제조

전문가 제언: ○ 직경이 수십㎚-100㎚인 나노홀은 같은 물질의 벌크상태에서의 홀과 다른 특이한 전자적, 전기적, 화학적, 기계적인 특성을 발휘하는 새로운 분야로서 주목 받으며 21세기에 떠오르는 나노테크놀로지 중에서 중요한 분야가 되어가고 있다.

○ 나노홀의 발생에서부터 기판 위에 집적, 배열에 관한 연구, 원스톱 프로세스의 개발과 각종 재료에의 응용에 관한 연구는 지금 일본에서는 광대한 상태에 있으며 활발한 연구가 이어지고 있다.

○ 양극산화 다공성 알루미나의 특이한 나노포러스 구조를 주형으로 한 각종 복합재료의 개발이 주목 받고 있다.

○ Asoh(阿相) 등은 반도체 또는 금속 나노홀 배열에 관심을 갖고 기판 위의 나노구조의 대규모 배열은 그들의 독특한 물리적 성질 및 많은 잠재적 응용성 때문에 전자공학, 광전자공학, 탐지, 고밀도 저장 및 초박 디스플레이 장치로서 상당한 매력을 갖고 있는 것으로 보고 있다.

○ 그는 실리콘 위에 직접 성형된 다공성 알루미나를 마스크로 이용하여, 전기화학 공정과 습식공정의 조합으로 실리콘을 미세 가공하는 새로운 방법에 관하여 개설하였다.

○ 알루미나 나노홀을 주형으로 사용하여, 양극산화를 행하여 실리콘의 나노구조체를 제조하는 것은 전혀 새로운 기법에 속하는 것이다.

○ 국내에서 나노홀 관련 연구에 종사하는 분에게 좋은 참고 자료가 될 것으로 생각되어 추천하는 바이다.

저자: SACHIKO ONO, HIDETAKA ASOH
자료유형: 학술정보