실온 나노임프린트 재료와 기술

전문가 제언

○ 나노임프린트는 나노스케일의 미세한 패턴을 쉽게 높은 정밀도와 저비용으로 형성할 수 있는 기술로서 최근 여러 분야에서 주목을 받고 있다. 나노임프린트는 PMMA 등 열가소성수지를 전사재료로 사용하는 열-나노임프린트와 저점성의 광경화성 모노머가 통상 사용되는 UV-나노임프린트로 크게 분류된다.

○ 열-나노임프린트는 전사재료인 열가소성수지를 유리전이온도 이상으로 승온하여 압형한 후 냉각하는 열 사이클이 필요하기 때문에 열에 의한 패턴 위치 정밀도와 선폭 정밀도 열화 문제가 있고 승온과 냉각에 시간이 많이 소요되어 생산성이 낮다. 또한 UV-나노임프린트는 실온 프로세스가 가능하나 광조사 후에 전사 재료가 수축되는 문제가 있다.

○ 본고는 레지스트의 열 사이클(승온과 냉각)이나 UV 조사가 필요 하지 않은 실온에서의 나노임프린트의 전사성과 프로세스를 졸-겔계의 무기 고분자 전사재료인 수소실세스키옥산폴리머(Hydrogen SilsesQuioxane : HSQ)를 사용하여 연구하고 그 결과를 보고한 것이다. 실온 나노임프린트의 전사 재료인 HSQ를 액적 도포하면 저압 프레스로 나노스케일에서 마이크로미터 크기의 패턴이 혼재된 패턴 전사도 가능하며 전사 후의 잔사도 거의 없는 장점이 있다. 이 연구는 일본에서도 실온에서 패턴을 형성할 수 있는 나노임프린트 기술로서 획기적인 성과 중 하나로 평가되고 있다.

○ 열-나노임프린트와 UV-나노임프린트가 주로 이용되고 있는 나노임프린트 기술 분야에서 HSQ를 이용한 실온 나노임프린트 기술은 새로운 첨단기술로 판단되므로 관심을 가지고 접근해야 것으로 생각된다.

저자

KEN-ICHIRO NAKAMATSU, SHINJI MATSUI

자료유형

학술정보

원문언어

일어

기업산업분류

재료

연도

2007

권(호)

27(6)

잡지명

機能材料

과학기술
표준분류

재료

페이지

24~32

분석자

이*옹

분석물

• 실온 나노임프린트 재료와 기술.pdf [286,653 byte]

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