UV 나노인프린트용 수지

전문가 제언

○ 2000년 미국 클린턴 대통령의「미국의 나노테크놀로지 전략」이 공표된 이래, IT, 바이오, 환경, 에너지 등 분야에서 나노기술 연구 개발이 전 세계에서 활발하게 수행되고 있다. 반도체나 광나노 디바이스, 고밀도 대용량의 저장 디바이스, 일회용 의료 진단 장비나 화학분석 팁 등의 개발과 실용화와 동시에, 다양한 나노재료나 나노 디바이스 제조 기반이 되는 나노가공이나 나노계측 기술의 연구 개발도 진행되고 있다.

○ 우리나라에서도 과학기술부가 주관 추진하고 있는 21세기 프런티어 사업의 하나로 2010 년까지 구조용 나노소재, 환경에너지 나노소재, 응용 나노소재의 전략분야에서 세계 5위권 이상의 핵심 원천기술을 확보하여 선진국 대비 80% 이상 수준으로 핵심 소재기술 역량을 높인다는 목표 하에 연구가 추진 중이다.

○ 나노 임프린트 리소그래피 기술 중 UV-나노 임프린트(UV-NIL) 기술은 열-나노 임프린트와는 달리 저점성 광경화성 수지와 이를 경화하기 위해 UV를 사용하기 때문에 상온 저압공정이 가능하여 다층화 공정 및 대량생산에 적합하다는 장점을 갖고 있다. 재료 면에서 경화성 액상 재료를 사용하므로 가열, 냉각이 불필요하여 수지나 몰드의 열팽창, 수축 등의 변형이 발생하지 않고 생산속도나 전사정도, 얼라인먼트 정도가 우수하다는 특징이 있다.

○ 본 고는 UV-NIL 수지의 요구특성, 평가방법 및 UV-NIL 프로세스를 이용한 가공 사례를 평이하게 소개한 것이다. NIL 기술은 급속하게 발전하고 있으나 계속 해결할 발전 과제로 몰드 제작(제작기술, 내구성, 제조비용, 수정기술 등), 장치상의 과제(임프린트의 균일성, 얼라이먼트의 정밀도), 검사기술, 대형 면적화에 대처하는 기술 등이 거론된다.

○ 나노 임프린트 기술은 매우 간단한 공정으로 초정밀 패턴을 전사할 수 있는 매력적인 나노 가공기술로서 제조 공정에 필요한 몰드, 수지 재료, 프로세스 설계, 검사 등의 기술 완성도 향상이 요망된다. 관련 분야의 참조자료가 될 것으로 생각된다.

저자

TAMANO HIRASAWA, NOBUJI SAKAI

자료유형

학술정보

원문언어

일어

기업산업분류

화학·화공

연도

2007

권(호)

27(6)

잡지명

機能材料

과학기술
표준분류

화학·화공

페이지

16~23

분석자

이*옹

분석물

• UV 나노인프린트용 수지.pdf [233,447 byte]

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