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자색 반도체 레이저의 정밀집광에 의한 플라스틱표면의 염료 안료 마킹

전문가 제언: ○ 일본에서는 본 문헌에서 해설한 자색반도체 레이저의 정밀집광에 의한 염료와 안료의 마킹에 관한 것 외에도 Sony사는 반도체레이저의 레이저전원 제어방법, 제어장치 및 광자기 기록매체의 기록재생방법 그리고 기록재생장치에 대한 것을 개발하여 2002년에 특허출원을 하였다.

– 반도체레이저의 직렬회로에 전원 전압을 부여하여 반도체레이저의 레이저전원을 제어하도록 하는 반도체레이저의 전원제어방법으로 출력트랜지스터에서 소비전력을 저감할 수 있다고 제안하고 있다.

○ 또한 일본의 Canon은 자색 반도체레이저를 광원으로 하는 전자사진장치에서 전자사진 감광제, 대전방법, 노광방법, 현상방법, 전사방법 및 제전방법에 대한 것을 개발하여 2004년에 특허출원을 하였다.

– 노광방법은 반도체레이저를 가지고 처리하고, 대전방법은 발광다이오드를 가지고 처리하는 방법이다. 이 때 반도체레이저의 파장 λa(nm), 발광다이오드의 파장 λb(nm) 및 전자사진 감광제의 최대분광감도 시의 파장 λc(nm)는 λa<λb<λc를 만족하고 λa, λb 및 λc는 모두 380~520nm의 범위 내에 있는 것으로 되어 있다.

○ 우리나라에서도 산업자원부 산하 기술표준원에서 2000년에 발표한 10대 신기술에 삼성전자의 질화물 반도체 자색레이저 다이오드 기술이 포함되어 있다.

– GaN계 질화물 반도체를 이용한 자색다이오드는 선진 외국에서도 실용화를 위한 연구가 활발하게 진행되고 있는 첨단기술이다. 우리나라는 일본에 이어 두 번째로 성공한 레이저발진에 관한 사례로 향후 이에 관한 실용화로의 보급 확대가 주목을 받고 있다.

저자: Hiroyasu UETA, Yoshio MAESHIMA, Yutaka TSUJIMOTO et al
자료유형: 학술정보