극자외선영역의 광학소자

전문가 제언

○ 2010년부터 시작될 차세대반도체 기술이 요구하는 소자의 선폭감소(66㎚→22㎚)와 저렴한 원가를 위해서, 노광공정에 이용되는 광원으로 13.5㎚의 극자외선(EUV)이 유망하므로, 반사·집광거울 등 광학소자 또한 EUV용으로 개발·교체될 것이다.

○ 대부분의 물질은 EUV, X선등 단파장의 빛을 흡수하므로, 굴절율의 차이가 심한 중·경금속을 한 쌍으로 한 다층막거울을 이용하면 EUV영역에서도 높은 반사율을 얻을 수 있다. Mo/Si다층막거울의 반사율은 경사입사각 80~90도, 파장 13㎚에서 약70%이나, 파장 20~30㎚에서는 30% 정도로 파장에 매우 민감하다.

○ 다층막거울의 품질은 반사율, 내구력, 반사면, 재현성 및 여러 물질과의 화합력으로 평가되며, 제작기술로는 마그네트론 스퍼터링법(MSD)과 이온빔 스퍼터링법(IBSD)이 많이 사용되고 있다.

○ 다층막의 반사율, 내열성, 내산화성, 조도, 높은 표면적 등을 향상시키기 위한 증착방법과 Filter개발 및 빔 집광이나 파장선택 등 요구 특성에 만족할 수 있는 새로운 기능의 개발이 필요하다.

○ 극자외선영역의 광학소자는 EUV노광, 천체망원경, 현미경, 현미광전자분광 등 연구와 레이저생성 플러스마광원, 방전생성 플러스마광원 등 광원개발기술의 중요한 요소기술이므로 집중투자·육성해야 할 것이다.

저자

Hisataka TAKENAKA

자료유형

학술정보

원문언어

일어

기업산업분류

일반기계

연도

2007

권(호)

35(3)

잡지명

？？？？？？究

과학기술
표준분류

일반기계

페이지

154~161

분석자

박*서

분석물

• 극자외선영역의 광학소자.pdf [229,666 byte]

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