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CVD 기술에 관한 최신 동향

전문가 제언: ○ 1950년대 초에 개발된 화학증착(CVD)법과 1960년 후반에 개발된 물리증착(PVD)법은 다 같이 경질 물질의 피복기술로서 표면개질(surface modification)을 목적으로 하고 있다. 표면개질은 금형이나 기계부품 등에 많이 사용되고 있으며, 경질 물질의 내마모성과 내식성을 향상시켜 대상물의 수명을 비약적으로 향상시킬 수 있다.

○ CVD법은 실험실과 산업 현장에서 폭넓게 응용되는 대단히 중요한 기술 중의 하나이다. 단일층, 복층, 복합재료, 나노코팅(Nano coating)은 저온에서 물질의 크기와 구조를 광범위하게 조작하면서 독특한 성질을 갖는 물질을 만들어 낼 수 있는 기술이다.

○ CVD법은 최근에 와서 활발하게 연구되고 있는 나노기술 분야에서도 많이 이용되고 있는 방법으로서 복잡한 화학반응과 반응의 열역학, 속도론, 유체역학 등 여러 가지 매개변수를 잘 이해하고, 활용함으로써 신물질과 상의 개발을 가능하게 해주는 잠재력이 많은 물질의 합성, 성장, 증착방법이다.

○ 최근에 와서 국내 메모리 업체를 중심으로 80나노급 소자의 양산이 시작되었으며, 2007년에 와서 국내 메모리 업체들의 설비투자가 공격적으로 진행되어 가고 있다. 나노급 소자의 제조공정에 있어서 핵심장비인 Photo, Etch, CVD 장비의 기여도가 100나노급 이상에서 보다 커질 전망이다. 오늘날 CVD 프로세스를 위한 CVD 장비의 국산화율은 7% 수준으로 미미하지만 이 장비군의 국산화율 향상은 급속히 진전될 전망이다.

저자: Junji Ogawa
자료유형: 학술정보