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축소투영 노광장치와 그 기술의 진전

전문가 제언: ○ 반도체 소자의 미세화에 따라 노광장치는 미세가공을 중심으로 반도체 집적회로 형성에 필요한 기술로 연구개발이 진행되고 있다. 즉 회로집적도가 높아지는 나노 반도체 공정에 적합한 신재료 개발이 재료업계에서 연구가 활발하게 수행되고 있다.

○ 최근 한국반도체산업협회 주관으로 개최된 “반도체 재료기술 로드맵 공청회”에서 이 분야 전문가들은 2007년 이후 주요 반도체 업체들이 65nm 이하의 반도체 공정도입을 가능하게 하는 새로운 재료개발 방향을 제시하였다. 이에 따라 차세대 반도체에 적당한 새로운 재료를 개발할 수 있는 기준이 정해졌다.

○ 특허청이 발표한 노광장치에 대해서 한국, 일본, 미국의 핵심요소 기술 분야 특허출원 점유율을 보면 지난 1985~2000년까지 16간은 일본이 48.6%로 미국(35.2%), 한국(16.2%)보다 많았는데 이것은 세계 노광장치 시장점유율 1위인 Nikon과 Canon 등의 노광장치 업체가 특허출원을 계속하였기 때문으로 풀이된다.

– 그러나 최근 5년간(2001~2005년) 특허출원 점유율을 보면 한국이 31.8% (475건), 미국이 36.8%(549건), 일본이 31.4%(468건)로 1985~ 2000년과 비교해 볼 때 상대적으로 낮았던 한국의 약진이 뚜렷하게 증가하고 있음을 알 수 있다.

○ 이러한 노광장치에 관한 핵심요소 기술 분야의 특허출원 점유율의 증가에도 불구하고 한국의 해외출원(8.4%) 비율이 국내출원(95.6%)에 비해 매우 낮은데 이를 타파하기 위해서는 기업뿐만 아니라 국가적인 차원에서 노광장치 핵심요소 기술 분야의 중요성을 인식하여 더욱더 적극적인 투자와 연구개발이 이루어지기를 바란다.

저자: Kazuo TAKAHASHI
자료유형: 학술정보