초임계 이산화탄소를 이용한 박막형성 기술

전문가 제언

○ 초임계 유체는 지금까지 유기합성, 추출, 세정 등 여러 종류의 분야에 사용되어 왔으나, 최근 DRAM과 CPU 등의 고도로 집적화 된 반도체 장치(ULSI)의 제조에 관심이 집중되고 있다. 세부적으로는 세정과 박리, 건조 등에 초임계 유체를 이용한 양산기술의 개발이 현재 크게 주목을 받고 있다.

○ 종래의 방법인 CVD 공정과 비교하면, 원료의 선택 자유도가 높고, 또한 100℃ 이하의 저온에서 제막을 할 수 있기 때문에, 최근에 초임계 유체를 반응매체로 하여 이용한 박막형성 제조공정 개발이 관심의 초점이 되고 있다. 특히 나노구조를 가진 ULSI 다층배선용 박막의 신규 형성 방법도 크게 주목받고 있다.

○ SCFD 공정에서 배치형의 성장양식에는 반응 부생성물이 축적되어 성장 저해가 예상되고 막후(膜厚) 성장에도 문제가 될 수 있다. 따라서 향후의 연구방향으로서는 원료를 연속공급하면서 박막을 형성하는 유통식 반응장치의 개발이 예상된다.

○ 초임계 이산화탄소를 이용한 박막형성 방법은 ULSI 제조뿐만 아니라 유기재료, 생체재료에 코팅 등으로 활용할 수 있는 가능성을 지니고 있다. 또한 높은 침투성과 확산성을 이용해서 MEMS, NEMS 장치 등의 복잡한 형상에의 코팅기술로서도 검토할 가치가 높은 제조공정이라고 여겨진다.

저자

Yukihiro Shimogaki, Masakazu Sugiyama, Takeshi Momose, Tomohiro Ohkubo

자료유형

학술정보

원문언어

일어

기업산업분류

재료

연도

2007

권(호)

27(1)

잡지명

機能材料

과학기술
표준분류

재료

페이지

58~65

분석자

유*천

분석물

• 초임계 이산화탄소를 이용한 박막형성 기술.pdf [217,717 byte]

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