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저유전율 고분자막용 키성분으로서의 폴리메틸메타크릴레이트

전문가 제언: ○ 21세기는 정보의 디지털화와 모바일기기의 급속한 보급에 따라 인터넷정보 전송량이 크게 증대하고 있기 때문에 대용량 정보를 고속으로 송수신, 표시, 기록할 수 있는 광전자 기술의 역할이 중요해 졌다. 그래서 정보기기의 광학재료로서 유리 보다는 성형성, 경량화 코스트 면에서 투명수지 특히 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA)가 각광을 받게 되었다.

○ PMMA는 우수한 표면광택, 투명성, 광열화 저항성, 광안정성, 내기후성 내스크래치성을 가진 선상비정질 열가소성 고분자이며 각종 적용에 있어서 만족할 만한 인장, 압축 및 굽힘 강도를 가지며 산성 및 알칼리 미디어에 대한 큰 내가수분해성을 갖는다.

○ PMMA는 그 성질에 의하여 마이크로 및 나노규모의 기능성 무기충전제를 매립하기 위한 가장 적합한 고분자 성분이다. 특히 차세대 VLSI소자에서 유기 및 무기, 혼합형 그리고 다공질의 저유전물질의 개발이 핵심요소기술로서 대두되면서 유전성을 가진 PMMA의 특징과 성질은 아주 중요하다.

○ 무기-유기 복합체 및 혼성막은 기능성 물질의 개발을 위하여 널리 이용되고 있다. 무기충전제, 나노입자나 클러스터를 매설한 고분자 매트릭스들은 특히 광학, 전자, 유전체 및 자기에 이용되고 있다. 낮은 유전상수를 가진 획득물질은 유기전계효과 트랜지스터와 같은 저 유전상수 고분자막을 기본으로 하는 마이크로 전자장치의 개발에도 이용이 가능하게 되어 향후 낮은 유전특성을 가진 PMMA이용에 대한 연구개발이 더욱 확대될 것으로 기대한다.

○ 최근 국내외에서 출원된 특허들을 보면 박정기 등이 출원한 「높은 회절 효율 및 낮은 부피 수축률을 갖는 유-무기 하이브리드형 광 고분자 조성물」(KR20050069852), 정동준 등의 「PMMA-POSS의 혼성물질을 함유하는 의치상용 수지조성물」(KR20030067962), 미국 DENG HAI 출원의 「저-κ를 가진 제올라이트-탄소 도프의 산화물복합체의 형성방법」(US2005107242), UNIV NIHON출원의 「폴리메틸메타크릴산 및 실세스퀴옥산으로 구성된 혼성물질」(JP2005146154) 등이 있다.

저자: Gross, S; Camozzo, D; Di Noto, V; Armelao, L; Tondello, E; AF Gross, Silvia; Camozzo, Daniele; Di Noto, Vito; Armelao, Lidia; Tondello, Eugenio
자료유형: 학술정보

원문언어: 영어
기업산업분류: 화학·화공