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AFM 나노리소그래피에 의한 나노스케일 재료의 패터닝과 설계

전문가 제언: ○ 나노기술은 집적회로, 기억장치, 디스플레이단위, 바이오칩과 바이오센서 등의 기술을 포함하는데, 이들 기술에 공통적으로 필요한 기술은 100㎚ 이하의 크기의 기능성 단위를 조립하는 것이다. 이를 달성하기 위해서는 벌크상태의 물질로부터 리소그래피의 방법으로 나노스케일의 패턴을 만들어가는 톱다운(top-down) 방식이 있으며 다른 하나는 분자나 콜로이드 입자 사이의 상호작용에 의해 2 또는 3차원 구조를 만들어 가는 보톰업(bottom-up) 방식이 있다.

– 톱다운 방식으로는 빛, 전자빔, 이온빔 등을 이용하는 현재 반도체를 생산하는 방식이 있다. 그러나 이러한 생산방식은 대규모의 투자가 필요하고 다단계의 생산과정을 거처야 되므로 이를 극복하고 IT 및 BT 산업의 선진화를 위해서는 새로운 나노스케일 패터닝 기술의 향상이 요구된다.

– 그러므로 나노임프린트, 소프트 리소그래피, 원자힘현미경 나노리소그래피 등의 새로운 방식의 생산기술 확보에 박차를 가할 필요가 있다. 이 방법의 성공적인 적용으로 나노스케일 패턴형성과 복제공정의 원가를 절감할 수 있을 뿐 만 아니라 제품 품질의 획기적인 향상이 기대되므로 멀지 않은 장래에 이 방식을 적용한 나노스케일의 구조조립 분야의 산업이 전 세계적으로 확대될 것으로 전망된다.

○ AFM 나노리소그래피는 작업원리와 방법에 따라 일반적으로 가압 하에서 행하는 나노리소그래피와 바이어스(bias) 전위를 인가한 상태에서 행하는 나노리소그래피의 두 가지로 분류된다. 본 고에서는 이 두 가지 방식의 나노리소그래피에 의한 나노미터 스케일에서 구조 구축에 관련된 최신 연구동향을 소개하고 있는데 그 내용은 나노조직, 장치의 조작, 패턴의 형성원리, 나노구조물의 기능과 특징에 대해 설명하고 있어서 관련 연구자들에게 많은 도움을 줄 수 있는 해설서로 판단된다.

○ 물리, 화학, 생물 등의 모든 자연과학분야를 아우르는 광범위한 학문체계를 포함하는 나노기술의 발전을 위해서는 관, 학, 업계의 일치된 노력이 필요하다고 생각된다.

저자: Xie, XN; Chung, HJ; Sow, CH; Wee, ATS; AF Xie, X. N.; Chung, H. J.; Sow, C. H.; Wee, A. T. S.
자료유형: 학술정보