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CVD 분말기술의 원리와 응용

전문가 제언: ○ FB-CVD 반응로는 화학기상증착(Chemical Vapor Deposition; CVD)법과 유동층(Fluidized Bed; FB) 반응로를 조합한 하나의 화학반응 장치이다. 고체화합물을 기판표면에 증착시킬 때 이 방법을 이용한다. CVD법과 FB법은 오래전부터 정밀화학에 많이 이용되어 왔다. 이 논문의 내용은 신물질 내지는 미세분말을 이 방법으로 효과적으로 얻는 것이 가능하다는 것을 소개하고 있다.

○ CVD법은 기체상태의 원료에 함유된 고형물질을 기판위에 분리시켜 금속이나 무정질의 박막을 퇴적시키는 방법이다. 기체의 흐름에 편승하여 원료가스를 기판근처로 도달시킨다. 원료분자는 기체가 흘러가는 도중에 기판표면에서 화학반응을 일으켜 분해하게 된다. 분해되어 나오는 구성분자 또는 구성 원자를 취합하든가 증착한데로 목적하는 용도로 이용하게 된다.

○ CVD만으로는 비교적 단순한 조작으로 정밀전자제품을 생산하고 있다. 여기에 FB를 첨가하면 반응로를 조종하는 것이 더욱 어려워진다. 유동속도, 불활성 기체의 유량, 선구물질의 양, 활성기체의 양, 온도에 따르는 기체분자의 거동 등이 증착으로 생기는 입자의 크기와 물성에 영향을 미치게 된다. 이 논문에는 열역학적인 은급은 없고 구체적인 반응조건을 제시하지 않았다. 다만 FB-CVD 반응로에서 초미세 제품의 제조가능성을 소개하고 있다.

○ 정밀화학 산업에 종사하는 사람에게는 추천할 만한 논문으로 보인다. 우리나라도 전자제품을 생산하는 기업에서는 CVD 반응로는 생소한 것이 아니다. 원래 이 장치는 결정성장 또는 다결정을 성장할 목적으로 고안한 것이다. 화합물에 내재된 다양하고 정밀한 물성을 이용하는 데는 원자세계에 가까운 물성을 가지고 있는 박막을 사용하는 것이 바람직하다. 초정밀 가공기술은 우리가 반드시 소유해야 할 것으로 본다.

저자: Vahlas, C; Caussat, B; Serp, P; Angelopoulos, GN
자료유형: 학술정보