X선회절 현미법에 의한 나노구조 해석

전문가 제언

○ 최근 나노기술에 의한 새로운 제품의 제작기술이 급속도로 진전되고 있으며 그 연구에 많은 연구자들이 참여하고 있다. 특히 나노제작 기술에 의한 제품의 제작기술은 모든 장치개발의 기반기술로 될 것으로 예상하고 있으며 나노기술의 발전에 의한 새로운 나노 시스템의 창출이 기대되고 있다.

○ 나노제작 기술에 의하여 새로운 제품의 창출을 위해서는 나노구조 해석에 대한 규명이 필요하며 여기서는 대형방사광시설(SPring－8)의 하드 X선을 이용한 나노구조 해석의 응용실험을 소개하였다.

○ SPring－8(전자의 가속에너지 8GeV)은 제 3세대 대형방사광시설로 일본에 설치되어 있으며 미국(Advanced Photon Source : 7GeV) 불란서(European Synchrotron Radiation Facility : 6GeV)에도 설치되어 있다. 우리나라에도 포항방사광가속기(2.5GeV)가 설치되어 있어 이 시설을 이용하여 나노 구조물의 물성분석 및 나노구조 분석 등에 대한 실험을 2000년부터 실시하고 있다.

○ 최근 반도체 장치산업을 비롯하여 광학부품 등의 장치분야에서 보다 미세한 가공기술이 요구되고 있으며 최근 여러 가지 재료에 초미세가공을 할 수 있는 나노 프린트기술이 개발되었다.

○ 또한 미세화에 수반되는 과제에 대처하기 위하여 장치기술과 제조기술은 새로운 기술의 개발로 이어질 것으로 예측되며 장치의 미세화에 의한 고집적화나 고성능화는 새로운 재료를 사용한 기술이 전개될 것으로 본다. 앞으로는 나노제작 기술과 마이크로전자기계시스템(MEMS)기술의 조합에 의한 마이크로 나노시스템 기술의 개발이 요구된다.

저자

Yoshinori Nishino, Tetsuya Ishikawa

자료유형

학술정보

원문언어

일어

기업산업분류

재료

연도

2006

권(호)

45(2)

잡지명

마테리아(N103)

과학기술
표준분류

재료

페이지

99~105

분석자

유*로

분석물

• X선회절 현미법에 의한 나노구조 해석.pdf [215,549 byte]

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