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고분자 재료의 레이저 박리기술

전문가 제언: ○ 고분자 재료는 그 구조에 의해 물성이 다양하게 발휘되기 때문에 가공기술의 진전에 따른 전기적 특성은 현재 일렉트로닉스의 주역인 반도체 Si을 능가할 정도로 다양성을 발휘할 것으로 예상하고 있다. 고분자 재료의 가공기술의 중요한 기반기술로서 레이저 박리가공, 개질 및 박막 제작기술의 진전은 신규의 전자재료 소자개발의 가능성을 크게 하는 것으로 기대된다.

○ 앞으로의 재료개발은 신규 물질의 발견보다는 기존의 물질에 대해서 새로운 특성을 발휘할 수 있는 더욱 복잡하고 미세한 구조의 물질을 설계하는 가공기술의 개발에 의한 신규 재료의 제조방향으로 전개될 것으로 예상된다.

○ 본 논문에서는 고분자 재료와 레이저광과의 상호작용에 대한 최근의 연구동향을 해설하고, N. Inoue 등이 실리콘 고무에 대한 레이저 박리가공의 특성을 이용하여 광도파로 및 마이크로렌즈 등의 제작에 응용한 결과를 소개하였다. 박막 제작을 원자수준에서 제어할 수 있는 기술, 특히 고분자 재료의 박막형성기술로는 본 논문에서 소개한 펄스 레이저 증착(PLD) 기술의 응용이 가장 기대되는 기술이라 할 수 있다.

○ 국내에서의 레이저에 의한 고분자 재료의 가공기술에 대한 연구는 몇몇 정부출연연구소, 대학 및 기업 등에서 진행되고 있지만 선진국의 기술 및 연구수준에 비해서는 아직 초보단계에 있다. 최근 한국기계연구원 나노공정장비연구센터에서는 (주)이노테크닉스, 한양대 등과 산학연 공동으로 광소자 제작용 레이저에 의한 고분자 필름의 가공기법을 개발하였다. 이 기술은 대용량의 광통신망 광도파로 소자 등의 저가격화 및 공정의 단순화에 기여할 것으로 기대된다.

저자: Narumi Inoue, Masayuki Okoshi
자료유형: 학술정보