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고순도 실리콘 폐기물의 재사용 기술

전문가 제언
○ 대량의 전기에너지를 소비해 제조되는 실리콘 단결정 잉곳은 반도체 칩에의 가공공정에서 약 80%는 슬러지로 폐기되므로, 자원의 재활용 및 반도체산업의 확대에 수반되는 환경보전 측면에서 주요 과제이다.

○ 종래 다이싱, CMP(Chemical Mechanical Polishing) 등의 기계적 가공에 의해 발생하는 연마 칩, 연삭 칩이 혼입된 배수는 응집 침전법 또는 필터여과와 원심분리를 조합한 두 가지 방법으로 처리되었다. 그러나 전자는 약품과 연삭 칩이 반응하거나 여과수에 약품이 섞여서 재이용할 수 없고, 후자는 시스템이 크며 운전비가 많이 들고 재생이 거의 불가능했다.

○ 본 연구는 실리콘 웨이퍼나 반도체의 제조공정에서 발생하는 고 순도 실리콘 폐기물을 공정 또는 특징별로 회수하여 각각 적당한 용도로 재생하는 기술을 개발하기 위해, 회수한 고순도 실리콘 폐기물의 성상을 조사하여 그 재생기술을 JFE Techno-Research사 연구진이 검토한 내용으로 관련 분야 연구의 기초자료로 활용가치가 높다고 생각된다.

○ SANYO Aqua Technology사는 반도체공장의 실리콘계 배수를 독자 개발한 폐수처리장치인 ‘Aqua Closer?’로 농축(실리콘 농도 2만mg/ℓ까지 가능)하여 탈수한 ‘PSiP?’(Pure Silicon Paste, 함수율이 45% 이하로 수분을 제외한 실리콘 함유량이 90% 이상)를 용강용(溶鋼用)의 탈산재(脫酸材)로 재생을 하여 판매하는 사업을 2003년부터 계속해 오고 있다.

○ 한편 SANYO 전기 등은 반도체 웨이퍼 가공 시 생성되는 고형물을 포함한 고농도(500~40,000ppm)의 배수를 원수탱크에서 압입 여과하여 케이크 형상의 상기 고형물과 저 농도 배수로 분리하고, 이 저 농도 배수를 원수탱크로 되돌려서, 상기 원수탱크의 배수농도를 저하시키는 것을 특징으로 하는 고형물 회수방법을 개발 특허출원했다.
저자
Hakaru NAKATO, Minoru NITTA
자료유형
학술정보
원문언어
일어
기업산업분류
화학·화공
연도
2006
권(호)
72(5)
잡지명
정밀공학회지(A078)
과학기술
표준분류
화학·화공
페이지
573~577
분석자
조*제
분석물
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