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MgxZn1-xO 합금의 최근 연구 동향

전문가 제언: ○ 광전자 분야에 사용되는 광학 소자에 대한 박막의 성장기술이 다양하게 발전되고 있다. 특히 최근에 박막의 두께가 나노화 되면서 MgxZn1-xO 합금 박막기술에 대한 중요성이 한층 커지고 있다.

○ PLD의 주요 결점은 ablation 과정에서 미크론 크기의 입자들을 분출하는 것으로 이 입자들이 기판 위에 증착되지 않도록 최적 공정을 도출하는 것이 필요하다.

○ MgxZn1-xO 합금 박막과 같은 산화 박막이 성장하는 실리카, 사파이어, 수정, ScAlMgO4와 TiN/Si, 그리고 ZnO 또는 MgO 층 등의 기판을 평가할 때는 박막과 기판 간의 격자 대등성, 열팽창 대등성, 화학적 양립성 등의 요소들을 엄밀하게 검토할 필요가 있다.

○ 금속 산화물 적층 박막을 전자와 광학 분야에 응용하는 경우 표면 형태에 따라 광학적 산란 손실과 이질 접합(heterojunction)이 결정되므로 표면 형태는 매우 중요하다.

○ 고도의 결정체(highly crystalline)인 적층 박막(epitaxial film)은 응용과 연구 측면에서 가장 매력적인 특성을 갖는 우수한 재료이다. 중국의 Zhejiang University of Technology에서 정리한 ‘MgxZn1-xO 합금의 최근 연구 동향’에 관한 기술자료는 MgxZn1-xO 합금제 박막재료를 연구 개발하는 데 매우 유익한 자료라고 판단된다.