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나노임프린트 기술조사

전문가 제언: ○ 나노 임프린트 기술(nanoimprint technology)은 광디스크 제작에서 유용한 양각(陽刻 : emboss) 기술을 발전시켜 해상도를 향상시킨 나노 제조 기술이다. 약 10년 전 미국에서 최초로 발표된 이후, 10nm 수준의 미세구조를 저렴한 값과 좋은 재현성으로 대량 제작할 수 있는데 주목하고 미국을 중심으로 여러 나라에서 집중적인 연구개발이 진행된 결과 실용화에 접근되고 있는 상황이다.

○ 수년 전부터 주요국의 반도체 장치 제작사가 나노 임프린트 장치 공급을 시작하고 있고, 2002년 말에는 미국의 Motorola사가 200mm 웨이퍼 전면에 60nm 접촉 홀 패턴(contact hole pattern)을 형성하여 반도체 리소그래피(lithography)로서의 가능성을 제시하였다. 국제 반도체 기술 로드맵 “ITRS 2003년 판”의 리소그래피 로드맵에서는 나노 임프린트 기술이 32nm 기술세대의 후보군으로서 처음으로 채택되어 장래 경제성을 갖는 대량 생산형 반도체 생산 기술로서 평가되고 있다.

○ 미국과 유럽에서는 이미 나노 임프린트 기술 개발을 위한 산학연 컨소시엄이 형성되어 국가 연구개발 프로젝트로 활성화 되어 있는 반면, 일본은 연구소, 대학 중심의 분산된 소단위 연구 프로젝트 수준으로서 개발 경쟁력을 우려하고 있다. 여기서는 이를 배경으로 일본의 NTT Advance Technology사가 정부기구 NEDO 프로젝트로 2004년 7월~ 2005년 3월에 수행한 사업으로서, 정부차원에서 나노 임프린트 기술의 국제 동향에 대응하기 위해 연구개발 전략을 제시한 내용이다.

○ 국내 연구진도 나노기술 연구를 위한 도구로서 나노 임프린트 리소그래피 장비를 도입해 있고, 중국, 대만, 싱가포르 등과 함께 후발 위치에서 나노 임프린트 기술의 응용연구에 참여 중이다. 32nm 노드 이후의 반도체, 광도파로(photo wave guide) 커플러 등 광학부품, 고밀도 자기 기록체, 인공 생체 세포조직, 마이크로 연료전지 등을 실현할 수 있는 기술로서 나노 임프린트 기술의 중요성은 매우 높다. 여기서 반영되고 있는 국제 동향 분석 자료와 금형 기술 등 주요 기술개발 과제들은 국내 연구진에게 유용한 자료로 활용될 수 있을 것으로 판단된다.

저자: NTT Advance Technology, Inc.
자료유형: 학술정보