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블록공중합체 박막필름을 이용한 패턴 제조(Patterning with block copolymer thin films)

전문가 제언: □ 현대는 경박단소(輕薄短小)로 대표되는 소형화와 고기능화가 진행되고 있다. 이를 위해 반도체 및 회로들의 패턴 미세화가 필수적이다. 현재까지 대부분의 패턴은 빛에 의한 노광으로 포토레지스트의 용해도를 변화시켜 현상 · 전사하는 방법을 사용하고 있으나, 이미 빛의 파장의 한계까지 도달할 정도로 미세한 패턴을 제조하는 데까지 이르렀다.

□ 블록공중합체 박막필름의 자발조립에 의한 나노미터 스케일의 구조 발현은 여러 가지 새로운 응용 가능성에 대한 기대를 갖게 한다. 예를 들면 박막필름에 균일하게 형성된 나노 도메인은 나노 인쇄, 나노 입자합성, 고집적 정보 저장매체, 배터리나 연료전지의 전해질 층, 티슈엔지니어링, 의약전달시스템, LED, 광전지, 발광 전지, 고분자 전해질, 스위치, 탄소 나노 튜브용 촉매, 등 그 응용가능성이 무한하다.

□ 또한 블록공중합체 나노 도메인을 이용하여 나노 입자를 합성하는 방법은 입자 크기의 분포, 입자의 모양, 입자의 위치 등을 조절할 수 있는 효과적인 방법으로 금속이나 금속산화물을 나노미터 크기로 가공하는데 큰 관심을 끌고 있다.

□ IT와 반도체 강국을 자처하는 한국에서 블록공중합체를 이용한 나노 패턴 기술을 실용화하기 위한 이 분야의 연구를 좀더 활성화할 필요가 있다.

저자: Segalman, RA
자료유형: 학술정보