펄스 마그네트론 스퍼터링에 의한 대면적 코팅기술(Industrial Technologies on Large Area Coatings by Pulse Magnetron Sputtering)
- 전문가 제언
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□ 펄스 마그네트론 스퍼터링법은 건축용 창유리 등의 기판에 균일하고 고속으로 TiO2와 SiO2 등의 절연성 광학 산화박막을 형성시킬 수 있는 기술이다. 막 두께 균일성, 프로세스 제어성, 안정성이 우수하며, 대면적으로 코팅할 수 있어 양산화가 가능하기 때문에 국내에서의 기술개발이 절대적으로 필요하다고 사료된다.
□ 본 자료는 FEP(Fraunhofer institute for Electron beam and Plasma technology)의 펄스 스퍼터링 기술을 중심으로 그 원리, 특징, 장치, 연관된 기술, 대면적으로의 응용에 대해서 소개하였다. 향후 발전 가능성이 많은 분야이므로 국내에서 최첨단 기술개발 과제로 선도할 수 있을 것으로 예상이 된다. 그래서 이 기술에 대한 정보수집과 제조기술에 대한 관심을 기울여야 할 것이다.
□ 펄스 마그네트론 스퍼터링법은 독일 FEP연구소에서 최초로 개발된 기술이다. 최근에는 고속성을 겸비한 펄스 마그네트론 스퍼터링법이 주목되고 있으므로, 앞으로 지속적으로 FEP 등과 같은 유럽의 연구소와 상시로 접속할 수 있도록 해두는 것은 극히 중요하다고 생각된다.
□ 독일과 네덜란드 등의 연구기관에서는 국책사업으로서 중소기업에 공업화에 대한 기술제공을 목표로 하여, 수많은 파일럿 설비(대규모의 실험설비)를 가지고 새로운 표면처리기술의 개발과 중소기업의 기술적인 문제점을 해결해 주는 역할을 훌륭히 해내고 있다. 국내에서도 이러한 제도를 적극적으로 활성화시킬 수 있는 분위기를 만들어야 한다.
- 저자
- Koichi SUZUKI
- 자료유형
- 학술정보
- 원문언어
- 일어
- 기업산업분류
- 재료
- 연도
- 2005
- 권(호)
- 40(2)
- 잡지명
- Ceramics Japan(C091)
- 과학기술
표준분류 - 재료
- 페이지
- 101~105
- 분석자
- 유*천
- 분석물
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