나노 프로세스 시대의 반도체 제조장치
- 전문가 제언
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○ 현재 일본에서는 반도체산업을 부활시키기 위해, 국가적인 지원을 받은 프로젝트가 활발하게 진행 중이며, 이 프로세스기술은 최근 세계적으로 지목을 받고 있다.
○ 폴리머 나노 분산기술을 구사하여 최첨단의 대형 웨이퍼프로세스를 개발하였고, 웨이퍼의 이면연마에 대한 업계의 요구에 부응하여 실리콘반도체디바이스를 개발하여 연마패드의 평탄성과 연마에 의한 상처를 감소시켰다고 한다.
○ 국내에서 반도체산업은 매우 중요한 위치에 있다. 최근 나노 기술의 보급으로 인하여 100nm 이하의 반도체디바이스장치가 제조 가능해짐에 따라 국내의 반도체업계도 실리콘 나노장치, 리소그래피 프로세스 및 나노 튜브와 나노 와이어 분야 등에서 대응에 부심하고 있는 것 같다.
○ 국내의 전기전자업계에서도 제품의 소형화가 진행됨에 따라 반도체 제조장치회사는 제품의 전력소비량의 절감, 발산열의 제어 및 고성능화를 해결하기 위하여 개발해야 될 과제가 많이 남아있다고 사료된다.
- 저자
- Maeda Kazuo
- 자료유형
- 학술정보
- 원문언어
- 일어
- 기업산업분류
- 전기·전자
- 연도
- 2005
- 권(호)
- 44(3)
- 잡지명
- 전자재료(A124)
- 과학기술
표준분류 - 전기·전자
- 페이지
- 8~13
- 분석자
- 오*동
- 분석물
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