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나노 리소그래피

전문가 제언: □ 근년, 미세한 패턴을 형성한 몰드를 수지 표면에 열 압인하는 방식에 의해 간단하게 미세 구조를 전사할 수 있는 나노 임프린트법이 개발됨에 따라, 종래 반도체의 미세 가공방법으로는 불가능하였던 곡면 구조 등, 복잡한 형상의 구조나 다층 구조의 가공이 가능할 것으로 기대된다. 나노 임프린트 기술이 실용화되면 현재, 반도체 공정 등에서 사용하는 사진현상 방식의 미세 패턴에서의 한계점을 극복할 뿐만 아니라 스탬프를 찍듯이 간단하게 복잡한 형상의 나노 구조물 제작이 가능할 것으로 사료된다.

□ 우리나라의 나노 임프린트 기술수준은 이 분야를 선도하고 있는 미국, 유럽 등, 선진국의 기술수준에는 아직 못 미치고 있지만, 최근 빠른 성장을 보이고 있다. 나노 종합 팹센터에서는 한국기계연구원, ETRI 및 삼성종합기술원 등 국내 49개 나노 기술 개발기관의 수요에 따라 나노 임프린트 장비를 도입하여 국내 기업체들을 지원할 예정이며, 나노 전자 사업단도 나노 임프린트 장비를 개발하고 있어서 향후 국내 나노 임프린트 기술의 발전에 크게 기여할 것으로 기대된다.

□ 나노 임프린트 기술의 확립은 차세대의 반도체뿐 아니라 고밀도 자기 저장장치, 고밀도 CD, 광 검출기 및 바이오 분야의 첨단 부품에 적용될 것으로 예상되며, 세계의 전기전자 및 광통신 시장에서 주도권을 확보하는 지름길이라 할 수 있다. 우리나라는 반도체 화시 및 관련 국책 연구소에서 이에 대한 연구를 활성화하고 있는 실정이며 실용화에 대비할 수 있도록 해야 한다.

저자: Yoichi KINOSHITA
자료유형: 학술정보