rf-GDOES와 저가속 FE-SEM-ESB가 개척하는 새로운 표면분석의 세계

전문가 제언

□ 주사 전자현미경을 크게 대별하면, 표면의 요철에서 발생하는 비탄성 2차 전자를 주로 이용하는 표면분석과 그 물질을 구성하는 원소의 원자핵과 충돌하는 탄성 산란전자(원자번호×밀도에 비례하여 강도를 나타냄)를 이용하는 조성분석(compositional analysis)으로 구분한다. 이외에도 특성 X-선(EDX, WDX, energy 혹은 wavelength dispersive X-ray spectrophotometer)을 이용한 점, 선 혹은 면적 투사로 물질의 조성과 분포를 알아내는 좋은 기능이 있으나, 이 경우는 분해능이 마이크로미터 단위로 커지는 단점을 갖고 있다.

□ 전자적 분석에서 중요한 것은 분해능을 높이는 방법이다. X-선의 분해능이 마이크로미터가 되어 분해능이 매우 낮다. 더욱 세밀한 분해능을 위하여 전자빔의 크기와 빔의 입사 깊이를 가능한 작게 하여야 한다. 일반적인 가속전압으로는 불가능하므로 BSE상에서는 저가속 전압으로 깊이를 조절하고 빔의 크기를 적게 하면 분해능을 올릴 수 있다.

□ 이 글에서도 기술했듯이 분석을 전문으로 하는 연구자는 분석 자체가 목적이 되지만, 일반적으로 분석을 요구하는 사용자는 분석의 큰 장벽을 넘기 위한 기본 자료에 불가하다. 휼륭한 표면분석 결과를 얻기 위해서는 전문화된 기술은 물론, 해상도가 높은 기기확보와 유지에 많은 자원이 소요되기 때문에 가능한 전문적으로 분석을 할 수 있는 센터화를 유도할 필요가 있다.

저자

Shimizu Kenichi ; H. Jaksch ; Habazaki Hiroki

자료유형

학술정보

원문언어

일어

기업산업분류

화학·화공

연도

2005

권(호)

53(1)

잡지명

공업재료(A028)

과학기술
표준분류

화학·화공

페이지

97~103

분석자

임*산

분석물

• rf-GDOES와 저가속 FE-SEM-ESB가 개척하는 새로운 표면분석의 세계.pdf [181,842 byte]

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