광 개시 양이온 중합(2)Photoinitiated Cationic Polymerization

전문가 제언

□ 양이온 중합은 라디칼 중합에서 만들 수 없는 구조의 고분자의 합성 및 분자량 분포가 좁은 것, 블록 공중하체의 합성 등 장점이 많은 고분자 합성법이다.

□ 자유라디칼로 촉진되는 양이온 중합은 넓은 광 흡수 특성을 가진 자유라디칼 광 개시제가 이용 가능하기 때문에 가장 적용 가능성이 높은 반응이다. 많은 광화학적으로 형성되는 라디칼은 오니움 염에 의해 산화된다. 이로 인해 생성 된 양이온이 단량체를 양이온 중합시킨다. 즉 개시제는 광에 의해 분해되어 라디칼이 생성되고 이 라디칼은 오니움 염에 의해 전자 하나를 빼앗겨 산화 되어 양이온이 되고 이 양이온이 중합을 개시 시킨다 이 시스템은 반응성 양이온의 발생에 보통 2~3성분이 참여하기 때문에 개시 메커니즘이 복잡하다.

□ 부가-개열 반응은 실제로 중합 계를 파장에 따라 반응성을 조정하는 유용한 방법이다 그중 부가 개열 반응에 의한 광중합 시스템의 이점은 모든 형태의 라디칼 원이 중합에 이용 될 수 있다는 점이다. 따라서 적당한 파장 응답성을 갖고 있는 라디칼 원을 선택하여 입사광 파장을 적절히 선택하면 쉽게 광중합을 수행 할 수 있다.

□ 신규 광 개시제로 펜아실설포늄 염 [Ph-CO-S+-(R)2]이 최근 발표되었다. 이 형태의 염에 의한 양이온 중합의 광 개시는 가역적인 경로를 통해 진행하는 것으로 알려져 있다. 황 원자에 인접한 탄소원자로부터 광에 의해 여기 된 염의 분자 내 수소가 떨어져 나간 후 내부에서 전자 이동이 일어나고 계속해서 양성자가 떨어져나가 황일리드(sulfur ylid)와 양성자산을 만들고 이 산이 중합을 개시한다.

□ 광 개시 양이온 중합은 종래 문제였던 후 경화, 산소의 중합 억제 효과, 휘발성 물질의 발생, 촉매 잔류물에 의한 독성 등을 해결할 수 있다. 향후 분자설계, 합성방법의 개선으로 인쇄 잉크, 접착제, 표면코팅제, 전자재료, 프린트기판 등 첨단 분야에 응용 가능한 재료 창출에 기여 할 것이다.

저자

Mehmet Atilla Tasdelen ; Yusuf Yagci

자료유형

학술정보

원문언어

일어

기업산업분류

화학·화공

연도

2004

권(호)

4(12)

잡지명

미래재료(J486)

과학기술
표준분류

화학·화공

페이지

8~14

분석자

박*진

분석물

• 광 개시 양이온 중합.pdf [249,942 byte]

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