클린 룸용 공기질의 케미컬즈 평가 : 부재의 아웃 가스

전문가 제언

□ 반도체 설비 가운데 필수적인 클린룸 설치와 운전비는 전체 반도체 생산비의 10%에 육박하고 있어, 비용절감을 위해 웨이퍼 세정 등 일부 공간에만 Class 1 이하의 초 청정 상태로 유지하는 국소환경(Mini Environment) 설비 도입이 많아지고 있다.

□ 한편, 반도체 웨이퍼 세정과 에칭 시엔 RCA 세정법 등 화학약품으로 세정시키게 되는데, 산과 염기물 등 유기화합물과 유기용제, 가스 등이 사용되고 있다.

□ 그런데 고집적의 IC나 LCD의 결함 원인 중 하나는 부유입자 외에도 이러한 공기 중의 미량의 불순가스 때문인 경우가 많아서, 공정 시 발생하는 유기화학물질과 클린룸이나 Mini Environment 설비 등의 부재에서 발생하는 Outgas로 공기오염 우려가 높다.

□ 본문에서는 이러한 장치의 부재에서 발생하는 아웃가스에 대한 평가 및 모니터링 기술을 보여주고 있는데, 고집적화 할수록 그 중요성은 더욱 커질 것이다.

□ 첨단 반도체에서 우리나라는 세계적으로 앞서고 있지만, 이를 위한 반도체 장비기술은 상대적으로 부족한 우리로서는 클린룸과 함께 아웃가스 평가 및 제어기술이 앞으로 고집적 반도체 강국으로 계속 나아가는데 불가피할 것으로 보이며, 아웃가스가 적게 발생하는 소재개발과 공기 질 유지 기술개발에 더욱 경주해야 할 것이다.

저자

S. Nonaka

자료유형

원문언어

일어

기업산업분류

환경·건설

연도

2004

권(호)

14(10)

잡지명

Clean technology(N272)

과학기술
표준분류

환경·건설

페이지

6~10

분석자

차*기

분석물

• 클린룸용공기질의케미칼즈평가.pdf [158,597 byte]

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