아웃가스 방지의 클린룸용 부재의 최신 동향

전문가 제언

□ 우주개발, 각종 정밀기기 제조공정의 활용으로 1958년경부터 클린룸 기술의 조직적 연구가 시작되어 미국연방규격 등이 제정되었으며, 제2차 세계대전 시에는 미국 Manhattan계획의 방사성 미립자 제거용의 HEPA필터 개발로 본격화되었으며, 1990년대에는 반도체산업의 미세화에 따라 ULPA 필터가 개발되었다. 우주개발계획의 진전과 함께 대기권에서의 세균 반출·반입 방지를 위해 1967년도에 바이오클린룸의 규격(NASA) 제정 후, 병원·수술실에서의 감염 방지 등 의학분야, 약품과 식품 등의 제조공정, 유전자연구시설 등에 최근 널리 이용되고 있다.

□ 반도체 제조분야의 수율과 직결되는 클린룸 기술은, 급속한 반도체 제조기술 발전에 따라 미세입자 제어의 종래기술에서 미량의 이온, 유기미스트, 산성·알카리성 가스를 ppb 수준으로 제어하는 차세대 개념의 연구가 필요하다.

□ 또한, 최근의 반도체 집적도 향상과 환경규제 강화추세에 대응할 수 있는 환경친화적인 기본 부재의 개발과 함께, 작업공정 중의 금속이온과 휘발성가스 방지를 위한 에어필터와 내장재, 배관과 닥트 등의 재질에 관해서도 많은 연구가 필요하다.

□ 한편, Shin Nippon Air Technologies는 Wesada대학 등과 「마이크로 클린룸」적인 시험환경을 제공해 반도체 제조용의 실제 클린룸과 같은 온도, 습도, 시험체 표면의 기류속도, 바깥공기 도입기준의 환기회수로, 부재의 아웃가스량의 측정·분석·평가가 가능한「CR－ADPAC (Clean Room ADvanced Pollution and Air quality Chamber) 시스템」을 개발했으며, 이를 통한 클린룸용 부재 선정용 데이터베이스를 구축 중이다. 또한 광원과 수상기를 최적으로 조합하여 실제 클린룸에 대한 0.15㎛의 미립자 가시화 시스템 개발로, 종래의 가시화 기술(현미경 0.1㎛, 클린룸 2~5㎛)의 break through에 성공했다.

□ 휴먼텍코리아ㆍ성도이엔지ㆍ한양이엔지 등 한국의 반도체ㆍLCD용 클린룸 설비업체들은 최근 화학플랜트 사업을 비롯한 환경ㆍ바이오 부문 등으로 사업영역을 확대하고 있다.

저자

Isao Tanaka ; Tomoaki Kajima

자료유형

원문언어

일어

기업산업분류

환경·건설

연도

2004

권(호)

14(10)

잡지명

Clean technology(N272)

과학기술
표준분류

환경·건설

페이지

1~5

분석자

조*제

분석물

• 아웃가스 방지의 클린룸용 부재의 최신 동향.pdf [315,500 byte]

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