나노임프린트 기술(The Survey of Nanoprint and Nanoimprint Technology)

전문가 제언

□ 나노임프린트 기술은 나노패터닝을 형성하는 공정으로서, 현재 반도체 공정에서 사용하는 리소그래피 방식의 미세화 한계점을 극복하고자 금형을 눌러서 간단하게 반복적으로 나노구조물을 전사하는 기술이다.

○ 나노임프린트 기술을 구현하기 위해서는 나노스케일에서의 물리현상을 고려한 재료기술, 스탬프(금형) 제작기술, 점착방지막 기술, 에칭기술, 측정분석 기술 등이 필요하며, 장비에 대한 나노미터급 정밀제어 기술의 확립이 불가결하다.

○ 나노임프린트 기술의 확립은 차세대 반도체뿐 아니라 고밀도 자기저장 장치, 고밀도 CD, 광검출기의 첨단 제품에 적용될 것으로 예상되며, 세계의 전기전자 및 광통신 시장에서 주도권을 확보하는 지름길이라 할 수 있다.

□ 우리나라의 나노임프린트 기술은 미국, 유럽 등 선진국의 기술수준에는 미치지 못하고 있지만, 근년 빠르게 성장하고 있다.

○ LG전자는 현재 프로젝션 TV용 50nm급 편광 필름의 패턴 형성에 나노임프린트 기술을 적용하고 있으며, 앞으로 비메모리 반도체 등으로 영역을 확대해 나갈 계획을 가지고 있으며, 벤처기업인 NND는 나노임프린트 장비를 개발하여 본격 상용화 채비를 갖추고 있다.

○ 나노종합팹센터에서는 한국기계연구원, ETRI, 삼성종합기술원 등 국내 49개 나노기술개발기관의 수요에 부응하여 나노임프린트 장비를 도입하여 국내 기업체들을 대상으로 지원할 예정이며, 또한 나노메카트로닉스사업단도 나노임프린트 장비를 개발하고 있어 국내 나노임프린트 기술의 발전에 기여할 것으로 기대된다.

저자

Yoshihiko HIRAI

자료유형

원문언어

일어

기업산업분류

화학·화공

연도

2004

권(호)

41(4)

잡지명

일본인쇄학회지(J659)

과학기술
표준분류

화학·화공

페이지

200~210

분석자

황*일

분석물

• 나노임프린트 기술.pdf [182,620 byte]

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