나노프린트 기술에 의한 고 애스펙트비 구조의 형성과 응용 (Formation of High Aspect Ratio Structures by Nanoprint Technology and Applications)

전문가 제언

□ 나노임프린트는 초미세 가공인 나노가공(1~100nm)을 실현키 위해 나온 기술이다. 기판(基板) 위에 열가소성 수지나 광경화성 수지를 도포(塗布)한 후 전자선(電子線)을 이용, 나노 몰드로 압력을 가해 경화시켜 패턴을 전사하는 기술이다. 나노임프린트 기술을 활용하면 현재 반도체 공정에서 사용하는 사진현상 방식의 한계점을 극복하고 도장 찍듯이 간단하게 나노 구조물을 제작할 수 있다.

□ 나노임프린트 기술을 활용하면 현재 100nm급인 미세공정이 10nm급으로 향상돼 차세대 반도체 분야의 기술 발전이 촉진될 것이다. 특히 나노임프린트 기술은 차세대 반도체 및 평판 디스플레이용 회로 형성 기술로 인정되고 있기도 하다.

□ 일반적으로 나노임프린트 기술에서는 나노 몰드의 凹凸 형상을 거의 같은 비율로 전사하나 “고 애스펙트비 나노프린트 기술”에서는 나노 몰드의 凹부의 깊이보다도 凸부의 높이가 높은(예를 들면 aspect ratio>10) 구조체를 전사하는 방법을 시도한 것이다.

□ 최근 9월에 한국 전자신문은 LG전자가 나노임프린트 기술을 적용한 편광필름 패턴형성․정밀 광통신 소자 개발 등을 진행 중이며, 벤처기업인 NND가 나노임프린트 장비를 개발, 본격 영업에 들어갔다고 보도했다. 차세대 반도체 개발의 핵심기술로 평가되는 나노임프린트 기술의 중요성은 미국 및 유럽 국가들의 활발한 개발지원으로 이미 입증되고 있다. 한국 업계와 정부 역시 기술의 중요성을 인식하고 더욱 과감한 기술개발을 지원해야 할 것이다.

저자

Akihiro MIYAUCHI ; Kosuke KUWABARA ; Masahiko OGINO ; Takuji ANDO (etc.)

자료유형

원문언어

일어

기업산업분류

화학·화공

연도

2004

권(호)

41(4)

잡지명

일본인쇄학회지(J659)

과학기술
표준분류

화학·화공

페이지

211~216

분석자

김*수

분석물

• 나노프린트에의한고아스펙트비구조의형성과응용.pdf [180,479 byte]

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