프로세스 가스 제어 기술의 변천과 전망 : 반도체 제조에 있어서 원료 가스 공급의 바람직한 모습과 그 실현 (AEC/APC)에 대한 기대

전문가 제언

□ 급변하는 반도체산업에서도 생존하기 위해서는 어느 산업과 같이 기술향상으로 가격 경쟁력을 높여야한다. 특히 고가의 장비들을 100%에 가깝도록 가동율을 높여야하나 현실은 40%정도밖에 되지않으므로 향상시킬 여유는 많다. 일본에서는 년간 25-30%의 향상을 목표로 하여 공정전반에 대하여 정확한 분석과 기술, 자원의 집중투자를 통하여 새로운 부활을 기대하고 있다.

□ 유보(Yield)를 증가시킬 수 있도록 결함을 빨리 검출 할 수 있고, 정확히 예측도 할 수 있어 가격동향에 즉시 대응할 수 있도록 즉 프로세스의 모든 과제들을 지적정보화하여 조절할 수 있는 새로운 AEC/APC 기술을 도입 활용하여 실제공정에서의 과제들을 조기에 검출, 조치하여 안정화 시키도록 한다.

□ 특히 웨이퍼에 공급하는 프로세스 가스의 공급지연절감을 위한 지적센서, 프로세스 성능결과를 지배하는 실행환경센서(Enviroment sensor) 및 웨이퍼상태 센서 등을 사용하여 매개변수들을 찾아 제조과정을 안정적으로 유지하기 위해서는 이 AEC/APC기술이 반드시 필요하다.

□ Gas공급 체계를 표면실장형 배관체계로, 전기배선을 Digital Network로, 부품들을 소형·다기능화하여 크기를 종래의 1/10이하로 할 수 있도록 Gas공급체계의 개발이 요구되고 있다.

저자

Enami

자료유형

원문언어

일어

기업산업분류

환경·건설

연도

2003

권(호)

13(11)

잡지명

Clean technology(N272)

과학기술
표준분류

환경·건설

페이지

6~11

분석자

박*서

분석물

• 반도체 제조에 있어서 원료 가스 공급의 바람직한 모습과 그 실현 (AEC-APC)에 대한 기대.pdf [188,834 byte]

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