반응성 고분자 나노 시트를 이용한 나노 코팅 필름

전문가 제언

□ 나노미터(㎚)는 10m 크기로 원자 3~4개가 배열된 정도의 극 미세한 크기이고 나노 기술은 원자나 분자 정도의 작은 크기 단위에서 물질을 제어하고 합성하며 그 성질을 측정하거나 규명하는 기술이다. 일반적인나노 기술은 1㎚에서부터 수십㎚ 범위의 재료나 대상을 연구하는 기술이며 유전자의 DNA, RNA 및 단백질 등도 나노에 속한다.

□ 나노 기술은 원자나 분자들을 적절히 결합하여 물질의 특성을 개선하거나 새로운 물질이나 소자 제조에 적당하여 그 응용 분야는 전자, 재료, 의약, 에너지 그리고 환경 등 광범위하게 사용되고 있다. 현재 차세대 반도체 기술은 반도체를 미세하게 가공하여 점점 더 작은 구조를 만드는 방식인 톱-다운(top-down) 방식이 이용되고 있지만 향후 원자나 분자를 결합하여 나노 범위까지 만드는 보텀-업(bottom-up) 방식이 주목을 받을 것이다.

□ 에폭시드는 탄소-탄소 이중 결합인 에틸렌 결합에 산소 원자가 첨가되어 삼 원자 고리인 에폭시 화합물 반응으로 에폭시화(expoxidation) 반응이다. 에폭시화는 산화 반응의 하나로 산화제는 과벤조산 또는 과아세트산 등의 유기 과산이 이용된다. 보통 벤젠, 클로로포름 또는 사염 화 탄소 등 비활성 용매에서 시행되며 시스 첨가 반응이 항상 일어나고 트랜스형 알켄에서는 트랜스형 에폭시화물이 만들어지고 시스형 알켄에서는 시스형 에폭시화물이 얻어진다.

□ 실란(silane)은 규소 수소화물의 총칭으로 일반식은 SiH로 나타낸다. 액체 암모니아 속에서 규소화마그네슘에 염화암모늄을 반응시켜 제조하고 반응 조건에 따라 모노 실란의 수율이 달라진다. 반응성이 높고 공기에 닿으면 연소한다. 묽은 산 용액에는 안정하지만 염기성에서는 급속히 가수 분해한다. 모노 실란은 규소의 표면 처리나 반도체용 고 순도 규소제조 원료로 사용된다.

□ 본고에서는 반응성 기능 단을 가지는 나노 시트를 LB법으로 집적하여 불용성 나노 코팅 층을 제조하는 방법에 대해서 서술하고 있다. 또한 여기서는 두께가 약 2㎚의 폴리머 단분자막을 고체 기판에 고정화하는 효과적인 방법도 설명하고 있다. 말단에 에폭시드를 가진 실란으로 제조한 고체 기판에 아미노기를 가진 pDDA-DADOO 단분자막을 LB법으로 전사하고 이 둘의 화학 결합을 이용하여 고체 기판 위에 불용성 나노 코팅 필름을 구축하였다. 또한 기존의 막 제조 기술을 이용하여서도 표면 거칠기(roughness)가 낮고 평활한 코팅 막을 고정화하는데도 성공하였다.

저자

Sumi Yuko ; Miyashita Tokgi

자료유형

원문언어

일어

기업산업분류

화학·화공

연도

2003

권(호)

47(11)

잡지명

접착(A041)

과학기술
표준분류

화학·화공

페이지

508~512

분석자

오*섭

분석물

• 반응성고분자나노시트를이용한나노코팅필름.pdf [190,583 byte]

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