진공장치용의 표면처리와 그의 기체방출 특성(Surface treatment for high vacuum equipment)

전문가 제언

□ 진공장치를 구성하는 재료에는 재료로부터 기체방출이 적은 특성이 요구된다. 재료로부터의 기체방출은 크게 2가지로 그 하나는 재료표면에 흡착되었던 것이 탈출되면서 기체로 방출되는 것. 다른 하나는 재료 내부에 함유되었던 것이 공간에 방출되는 것이다.

□ 알루피가, 싸스피가, 실리콘 피막의 표면처리는 표면의 기체방출을 적계하기 위한 표면처리이며, TiN 피막은 스테인리스강과 같은 재료에 함유된 수소의 방출을 진공측 표면에서 억제하는 수소장벽으로서의 표면처리다.

□ 산업의 발달로 진공장치는 원자력공업, 화학의약품공업, 전자공업, 광학공업, 금속공업, 이화학기기, 우주개발, 의료기기 등등 여러 분야에서 응용하게 되었다. 그러나 여기에 사용되는 진공장치의 재료는 대부분이 알루미늄합금과 스테인리스강으로 만드나 재료표면에 부착된 수분에 의한 기체발생과 재료자체가 함유하고 있는 수소가스로 발생되는 가스는 등한이 하기 쉽다.

□ 표면에서의 발생은 표면을 평활하게 처리하여 진면적을 적게 하여 수분의 부착 면적을 적게 하고, 내부 수소 발생은 표면방출을 억제하는 처리를 하여 저(低)기체방출속도를 실현하는 것은 전혀 새로운 분야라고 생각한다. 이 외에도 초저진공상태를 요구하는 분야에서는 보다 높은 진공도가 요구될 것이며, 이를 실현하기 위해서는 진공 메커니즘, 재료 및 표면처리 분야, 진공측정방법 등의 종합적인 연구가 필요할 것이다.

저자

INAYOSHI S. Sakae

자료유형

원문언어

일어

기업산업분류

재료

연도

2004

권(호)

74(1)

잡지명

금속(A112)

과학기술
표준분류

재료

페이지

64~70

분석자

이*식

분석물

• 진공장치용의 표면처리와 그의 기체방출 특성.pdf [179,633 byte]

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