나노기술이 금형으로 신변에 접근: 나노 각인기술이 2004년에 실용화

전문가 제언

□ 나노 각인기술이 차세대의 리소그래피기술로 강력히 부각되고 있다. 나노 각인기술을 채택하면 고가의 광원이나 전자원, Mask Set 등이 필요가 없고, EUVL(Extreme Ultraviolet Lithography) 및 EPL(Electron Projection Lithography)와 같은 다른 기술에 비해 대량생산이 가능하여, SPE(Signal Processing Electronics) 생산자가 관심을 가지고 시장을 개척하고 있다.

□ 현재 시장에는 이 기술을 이용하여 빛의 반사율을 1/10로 줄이고, 가격도 1/10에 지나지 않는 액정패널용의 프론트라이트 시제품이 일본의 Omron사에 의하여 출하되고 있다. 그러나 아직까지는 공정에서의 오차가 수백 nm에 달하여 보다 정밀한 가공을 필요로 하는 분야에서의 활용은 기술개발에 시간이 걸릴 것으로 보인다.

□ 나노 각인기술이 부각되기 시작한 것은 아주 최근이지만, Motorola사를 비롯하여 많은 반도체 제조회사들이 관심을 가지고 연구하고 있다. 2003년 12월에는 ITRS의 로드맵에서 32nm 노드 이후의 미세화기술로서 거론되고 있다.

□ EUVL도 원래는 2007년경에 시장에 출현할 것으로 예상되었으나, Intel을 비롯한 반도체 제조회사들은 2009년 이후에나 가능할 것으로 보고 있어, 이들 기술과 경쟁을 하여야 하는 나노 각인기술로서는 시간을 번 셈이다.

□ 우리나라도 국립연구기관 및 대학에서 나노 각인기술에 대한 연구가 활발히 이루어지고 있는 것으로 보이며, 그 결과가 앞으로의 반도체산업에 상당한 영향을 미칠 것으로 판단된다. 이 연구에 대한 정부 및 산업체의 지원이 필요하다.

저자

Satoshi OKUBO

자료유형

원문언어

일어

기업산업분류

전기·전자

연도

2004

권(호)

(872)

잡지명

Nikkei electronics(F266)

과학기술
표준분류

전기·전자

페이지

67~74

분석자

이*근

분석물

• 나노기술이 금형으로 신변에 접근-나노 각인기술이 2004년에 실용화.pdf [167,271 byte]

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