양이온 중합 가능한 단량체와 고분자의 분자 디자인(Molecular design of cationically polymerizable monomers and polymers)

전문가 제언

□ PCB 제조에 쓰이는 DFR과 솔더마스크, 반도체 가공 등에 쓰이는 액상 포토레지스트(photoresist), 인쇄잉크, 코팅 및 접착제 등에 자외선과 전자빔 경화 시스템이 널리 쓰이고 있다. 최근 자외선, 전자빔 경화 시스템이 새로운 기술 분야 즉 정밀 전자공학, 정밀기계, 3차원 가공, 액정 디스플레이, 광학 미디어 및 광전자 재료 등으로 영역을 넓혀가고 있다. 지금까지 이러한 경화 시스템에 라디칼 중합이 가능한 다기능 아크릴 단량체와 올리고머가 사용되었다. 이 시스템은 높은 광화학 반응성을 갖고 있어 가교된 불용성이면서 우수한 기계적 물성을 갖은 필름을 만들 수 있다. 그러나 낮은 점도의 아크릴 단량체는 피부 자극 등의 독성과 모서리 용융접합 등 취급에 문제점이 있다.

□ 제2세대 자외선 경화 시스템으로 광 개시 양이온 중합 가능한 다기능 에폭시 화합물과 다기능 비닐 에테르 화합물이 관심을 끌고 있다.

□ 이 리뷰에서는 glycidyl vinyl ether와 활성이 큰 염화물을 부가반응 시켜 얻어진 크로로메틸 그룹과 이염기산을 반응시켜 새로운 다기능 비닐 에테르를 합성하는 방법을 보고함과 동시에 광 개시 양이온 중합 가능한 calixarene 유도체의 합성에 관한 합성법 위주의 보고이다.

□ 각종 새로운 단량체들을 합성하였으나 실제 적용한 사례는 보고 되지 않았다. 여기서 보고 된 화합물들은 단독으로 포토레지스트 등에 사용하기보다는 기존 화합물에서는 달성하기 어려운 물성을 만드는 포뮬레이션의 한 성분으로 쓰면 좋을 것이다. 즉 실리콘이나 인을 함유한 것은 난연성과 유연성을 부여하고, calixarene 유도체는 높은 Tg를 이용하여 흐름을 방지하여 최대 문제점인 두께 균일성 확보에 쓴다. 또한 폴리이미드는 내열성을 높이는 성분으로써 사용하면 좋을 것이다.

저자

Kameyama, A; Nishikubo, T

자료유형

원문언어

영어

기업산업분류

화학·화공

연도

2004

권(호)

17(1)

잡지명

JOURNAL OF PHOTOPOLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY

과학기술
표준분류

화학·화공

페이지

45~50

분석자

박*진

분석물

• 양이온 중합 가능한 단량체와 고분자의 분자 디자인.pdf [174,452 byte]

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