적외 분광법에 의한 알루미늄 자연 산화막의 구조 해석(Characterization of native oxide on aluminum by infrared spectroscopy)

전문가 제언

□ 일반적으로 금속이나 반도체상에 생성된 산화막 구조 해석에 X선 광전자 분석법(XPS)이나 오제 전자 분광법(AES) 등이 많이 사용되고 있다. XPS의 프로브 면적은 통상 mmφ 오더이고 AES는 umφ 오더로 AES가 국소 영역의 정보를 얻는 데 더 기여하는 특징이 있다. 그러나 이들은 시료를 진공 챔버에 넣어야 하므로 신속성이 떨어지고 장치도 고가인 문제점이 있다.

□ 광학적 방법은 진공 측정이 아니며, 신속성이 있다. 대표적인 것은 적외 분광법(IR)으로 IR은 벌크 구조 해석에 널리 쓰여 왔으나, 분산형 장치에서는 감도가 낮고 박막 분석에는 적합하지 않다. 푸리에 변환(FT)식 분광 광도계의 출현으로 검출기의 성능이 향상되어 옹스트롬 오더의 자연 산화막 해석에도 이용하게 되었다. 고순도 알루미늄 및 마그네슘이 표면에 농축된 알루미늄 합금의 표면 산화막 해석이 가능하게 되었다.

□ 최근 적외 분광법을 이용한 여러 가지 측정 장치가 개발되고 있다. 예를 들면 일본의 Toyota(豊田)중앙연구소에서는 적외선의 열분해 적외 분광법으로 오염되거나 도장 처리된 자동차용 수지를 5초 이내에 분석할 수 있는 장치를 개발하여 시판하기도 하고, 우리나라에서는 (주)성진 I&T에서 FT-IR 4000 시리즈(일반 측정용), FT-IR 6000 시리즈(연구용 고성능 장비), Vacuum FT-IR 시리즈(공기 중의 이산화탄소나 수중기의 영향 없이 스펙트럼할 수 있는 장비) 등을 개발하여 판매하고 있다. 과거에 X선 광전자 분석법(XPS)나 오제 전자 분광법(AES) 등을 사용하던 것을 적외 분광법으로 방향이 전향하는 경향이 있는 것 같다.

□ 최근 소재의 고기능화, 고품질화 요구가 강하게 증가되어, 표면 기능을 높인 제품의 중요도가 높아지고 있어 비교적 측정이 간결한 이 방법이 많이 사용되겠으나, 이 분야 응용에는 많은 요소가 있어 앞으로 보다 좀 더 많은 연구가 있어야 할 것으로 생각된다.

저자

Takeshi OHWAKI

자료유형

원문언어

일어

기업산업분류

재료

연도

2004

권(호)

54(1)

잡지명

경금속(E053)

과학기술
표준분류

재료

페이지

31~36

분석자

이*식

분석물

• 적외 분광법에 의한 알루미늄 자연 산화막의 구조 해석.pdf [185,535 byte]

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