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첨단기술정보

300mm 이온 주입 장치

전문가 제언: □ 반도체 제조 공정에 널리 사용되고 있는 고체에 가속 이온을 주입하여 그 표면의 특성을 변화시켜 주는 이온 주입 장치(Ion Implanter)는 높은 신뢰성과 조종의 단순화 및 자동화가 요구되고 있으며 이에 대한 에 관한 연구개발이 필요하다.

□ 반도체 소자에 대한 최근의 소형화 추세에서 초기에 주입되는 이온의 분포를 정밀하고 정확하게 제어하는 것은 후속으로 주입되는 이온의 정확한 불순물 분포를 얻고 소자를 성공적으로 개발하는데 필수적이다.

□ 산업용 이온 주입 장치에서 원격 조정 시스템은 장비 조종의 편의성과 인명의 보호 관점에서 중요하다. 또한 향후 무인 시스템에 대비하여 이온 주입 장치는 안정성과 정확성을 겸비하고 모든 제어 알고리즘이 자동화 되어야 한다.

□ 고객의 요구는 계속 진보되고 다양화되는 양상을 보이므로 여기에 대응하여 신뢰성이 보장되고 고성능 · 고효율을 갖는 이온 주입 장치를 개발하는 것이 중요하다. 국내 반도체 제조 산업의 품질을 높이고 경쟁력을 안정적으로 확보하는데 있어서 본고에서 정리한 ‘300mm 이온 주입 장치’에 관한 내용은 좋은 참고 자료로 활용할 수 있을 것으로 생각된다.