적층 산화물 박막재료의 합성과 특성 (Synthesis and properties of epitaxial electronic oxide thin-film materials)

전문가 제언

□ 적층 박막의 성장기술은 박막의 결정상과 연관되는 in situ 기술과 박막의 산화물상과 연관되는 ex situ 기술 분야에서 다양하게 발전되고 있다. 특히 최근의 박막 두께가 나노 사이즈화 되면서 박막에 대한 첨단 나노기술과 재료기술에 대한 중요성이 증가하고 있다.

□ 고온 초전도체는 Lorentz force의 영향 하에 움직이는 decoupling 현상이 심하며, 이러한 flux creep을 줄이기 위해서는 pinning center를 초전도체에 도입하는 것이 요구된다. 보다 효과적인 flux pinning을 위해서는 pinning mechanism이 구체적으로 이해되어야 하며 pinning 특성을 향상시킬 수 있는 연구가 필요하다.

□ 금속테이프를 제조하는 RABiTS법이 보다 경제성을 갖기 위해서는 비자성 고강도 textured 금속모재의 합금 및 가공기술, 저진공에서 buffer layer 제조기술, 저진공에서 초전도층 제조기술, 연속식 conductor 제조기술, 초전도박막 증착용 소재제조기술(CVD precusor, target 제조기술), 그리고 flux pinning 측정기술 등의 개발이 필요하다.

□ University of Florida에서는 적층 구조를 중심으로 전자산업용 산화 박막의 성장과 특성에 관하여 정리한 “적층 산화물 박막재료의 합성과 특성”에 관한 기술 자료는 coated conductor를 포함한 초전도체, 반도체, 절연체 등을 연구 및 개발하는데 매우 유익한 자료이다.

저자

Norton, DP

자료유형

원문언어

영어

기업산업분류

재료

연도

2004

권(호)

43(5-6)

잡지명

MATERIALS SCIENCE & ENGINEERING R-REPORTS

과학기술
표준분류

재료

페이지

139~247

분석자

김*태

분석물

• 적층 산화물 박막재료의 합성과 특성.pdf [270,773 byte]

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