격동의 시대를 달려가는 신 반도체 PROCESS 기술

전문가 제언

□ 환경인으로 아주 생소한 분야인 반도체분야를 검토하게 되어 외람된 일이나, 반도체 제조공정을 알지 못하고는 반도체 Fab 등에서 발생되는 많은 산, 알칼리 및 독성 gas들을 처리할 수 없으며, 어떤 새로운 제조기술이 개발되고, 어떤 물질들이 어떻게 발전·대체되는지를 파악함으로써, 병행하여 환경문제도 신속하게 대처해 나갈 수 있을 것이므로 유익하게 생각된다.

□ Si wafer의 박리, 세정공정에서 발생하는 gas처리는 산, 알칼리 용액으로 30년 이상 반복적으로 packed tower scrubber에서 처리하여 왔으나, 이제 저면 방사 방지막(BARC: Bottom Anti Reflection Coating)으로 photoresist의 박리를 해결할 수 있는 공정이 개발되어 이에 따른 환경설비도 약품을 사용하지 않고 빛을 조사하므로 해결할 수 있는 길이 열리고 있다. 오염물질 발생공정을 잘 파악해야 기술적, 경제적으로 환경을 지속 발전시켜 나가 수 있을 것이다.

저자

Hasegawa

자료유형

원문언어

일어

기업산업분류

전기·전자

연도

2004

권(호)

14(2)

잡지명

Clean technology(N272)

과학기술
표준분류

전기·전자

페이지

41~46

분석자

박*서

분석물

• 격동의 시대를 달려가는 신 반도체 PROCESS 기술.pdf [231,611 byte]

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